| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第11-37页 |
| 1.1 石墨烯 | 第11-28页 |
| 1.1.1 石墨烯的发现与兴起 | 第12-13页 |
| 1.1.2 石墨烯的结构及能带 | 第13-16页 |
| 1.1.3 石墨烯的性能及应用 | 第16-18页 |
| 1.1.4 石墨烯的测试设备 | 第18-25页 |
| 1.1.5 石墨烯的制备方法 | 第25-28页 |
| 1.2 化学气相沉积法生长石墨烯 | 第28-35页 |
| 1.2.1 制备条件 | 第29-31页 |
| 1.2.2 生长机理 | 第31-33页 |
| 1.2.3 剥离与转移 | 第33-35页 |
| 1.3 本论文的研究内容 | 第35-37页 |
| 第二章 实验方案 | 第37-41页 |
| 2.1 实验材料 | 第37页 |
| 2.2 基底的预处理 | 第37页 |
| 2.2.1 PECVD法的基底预处理 | 第37页 |
| 2.2.2 CVD法的基底预处理 | 第37页 |
| 2.3 石墨烯的制备 | 第37-39页 |
| 2.3.1 PECVD法石墨烯的制备过程 | 第37-38页 |
| 2.3.2 CVD法石墨烯的制备过程 | 第38-39页 |
| 2.4 基底腐蚀法转移石墨烯 | 第39-40页 |
| 2.5 测试设备与方法 | 第40-41页 |
| 第三章 铜基底粗糙度对石墨烯的影响及机理研究 | 第41-51页 |
| 3.1 引言 | 第41-42页 |
| 3.2 铜箔的粗糙度对石墨烯的影响 | 第42-46页 |
| 3.3 Materials Studio对实验现象的模拟及解释 | 第46-49页 |
| 3.4 本章小结 | 第49-51页 |
| 第四章 石墨烯的形貌调控 | 第51-63页 |
| 4.1 引言 | 第51页 |
| 4.2 CVD反应参数对石墨烯生长的影响 | 第51-54页 |
| 4.2.1 反应时间对石墨烯生长的影响 | 第53-54页 |
| 4.2.2 反应压强对石墨烯生长的影响 | 第54页 |
| 4.3 不同形貌石墨烯的制备 | 第54-55页 |
| 4.4 不同石墨烯的形貌结构表征和质量检测 | 第55-61页 |
| 4.5 本章小结 | 第61-63页 |
| 第五章 大面积石墨烯的制备与表征 | 第63-69页 |
| 5.1 引言 | 第63页 |
| 5.2 大面积石墨烯的形貌及成分表征 | 第63-67页 |
| 5.2.1 形貌和成分表征 | 第63-67页 |
| 5.2.2 石墨烯的转移 | 第67页 |
| 5.3 本章小结 | 第67-69页 |
| 第六章 石墨烯拼接和堆垛生长的研究 | 第69-75页 |
| 6.1 引言 | 第69页 |
| 6.2 多层石墨烯的制备与测试 | 第69-73页 |
| 6.2.1 CVD法石墨烯的拼接 | 第69-71页 |
| 6.2.2 CVD法石墨烯的堆垛 | 第71-73页 |
| 6.2.3 CVD法石墨烯的堆垛拼接 | 第73页 |
| 6.3 本章小结 | 第73-75页 |
| 第七章 结论 | 第75-77页 |
| 致谢 | 第77-79页 |
| 参考文献 | 第79-85页 |
| 硕士期间发表和完成的文章与专利 | 第85页 |