电子加速器辐照降解草莓中异菌脲和腐霉利残留的研究
| 中文摘要 | 第4-6页 |
| abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第10-28页 |
| 1.1 食品辐照加工技术概述 | 第10-15页 |
| 1.1.1 食品辐照加工技术的概念 | 第10-11页 |
| 1.1.2 食品辐照加工技术分类 | 第11-12页 |
| 1.1.3 食品辐照技术的应用 | 第12-15页 |
| 1.2 食品中农药残留概述 | 第15-26页 |
| 1.2.1 食品中农药残留现状 | 第15-17页 |
| 1.2.2 农药残留的传统消除方法 | 第17-24页 |
| 1.2.3 辐照降解农药残留的应用 | 第24-26页 |
| 1.3 研究目的及内容 | 第26-28页 |
| 1.3.1 研究目的 | 第26-27页 |
| 1.3.2 研究内容 | 第27页 |
| 1.3.3 拟解决的关键问题 | 第27-28页 |
| 第2章 电子加速器辐照降解草莓中异菌脲残留的研究 | 第28-39页 |
| 2.1 引言 | 第28-29页 |
| 2.2 实验方法 | 第29-31页 |
| 2.2.1 试剂与材料 | 第29页 |
| 2.2.2 仪器与设备 | 第29-30页 |
| 2.2.3 辐照处理 | 第30页 |
| 2.2.4 确定峰面积-异菌脲浓度标准曲线 | 第30页 |
| 2.2.5 水溶液中异菌脲样品前处理 | 第30页 |
| 2.2.6 草莓中异菌脲样品前处理 | 第30-31页 |
| 2.2.7 高效液相色谱法(HPLC)测定异菌脲 | 第31页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第31-37页 |
| 2.3.1 HPLC检测异菌脲的标准曲线 | 第31-32页 |
| 2.3.2 辐照对水溶液中异菌脲降解的影响 | 第32-34页 |
| 2.3.3 辐照对草莓中异菌脲降解的影响 | 第34-37页 |
| 2.4 本章小结 | 第37-39页 |
| 第3章 电子加速器辐照降解草莓中腐霉利的研究 | 第39-50页 |
| 3.1 引言 | 第39页 |
| 3.2 实验方法 | 第39-44页 |
| 3.2.1 试剂和材料 | 第39-40页 |
| 3.2.2 仪器与设备 | 第40页 |
| 3.2.3 气相色谱-质谱(GC-MS)条件 | 第40-41页 |
| 3.2.4 标准曲线的建立 | 第41-42页 |
| 3.2.5 辐照降解水溶液中腐霉利的研究 | 第42-43页 |
| 3.2.6 草莓中腐霉利辐照降解研究 | 第43-44页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第44-49页 |
| 3.3.1 GC-MS检测腐霉利农药的标准曲线 | 第44-45页 |
| 3.3.2 水溶液中腐霉利辐照降解效果分析 | 第45-47页 |
| 3.3.3 草莓中腐霉利辐照降解效果分析 | 第47-49页 |
| 3.4 本章小结 | 第49-50页 |
| 第4章 全文结论 | 第50-52页 |
| 参考文献 | 第52-63页 |
| 导师简介 | 第63-65页 |
| 作者简介 | 第65-66页 |
| 致谢 | 第66页 |
