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Bi2Te3类拓扑绝缘体材料电子结构的第一性原理研究

摘要第1-5页
ABSTRACT第5-9页
第一章 绪论第9-27页
   ·量子霍耳效应与拓扑序第10-12页
   ·量子自旋霍尔效应与螺旋边缘态第12-15页
   ·三维拓扑绝缘体与表面态第15-22页
   ·拓扑不变量 Z_2第22-25页
   ·研究方法和研究内容第25-27页
第二章 理论基础和计算方法第27-41页
   ·多体问题第27-28页
   ·绝热近似和单电子近似第28-30页
   ·密度泛函理论第30-34页
     ·Hohenberg–kohn 定理第30-31页
     ·Kohn–Sham 方程第31-32页
     ·局域密度近似和广义梯度近似第32-34页
   ·布洛赫定理和超原胞模型第34-36页
     ·布洛赫定理第34-35页
     ·平面波基矢第35页
     ·超原胞模型第35-36页
   ·赝势方法第36-37页
   ·VASP 程序包第37-41页
第三章 拓扑绝缘体 Bi_2Te_2Se 薄膜电子结构的研究第41-51页
   ·引言第41-42页
   ·模型和方法第42-44页
   ·结果和讨论第44-49页
   ·结论第49-51页
第四章 S 吸附在 Bi_2Te_3薄膜表面对其拓扑扑表面态的影响第51-59页
   ·引言第51页
   ·模型和方法第51-53页
   ·结果和讨论第53-58页
     ·Bi_2Te_3晶体的拓扑相变第53-56页
     ·S 原子在 Bi_2Te_3(111)面的吸附第56-58页
   ·结论第58-59页
第五章 总结和研究展望第59-61页
参考文献第61-69页
致谢第69-71页
攻读硕士学位期间的科研成果第71-72页

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