磨料水射流抛光技术研究
摘要 | 第1-14页 |
Abstract | 第14-16页 |
第一章 绪论 | 第16-31页 |
·课题来源与研究背景 | 第16-23页 |
·课题来源 | 第16页 |
·应用需求 | 第16-20页 |
·磨料水射流抛光技术 | 第20-23页 |
·研究意义 | 第23页 |
·国内外研究现状 | 第23-29页 |
·水射流技术的发展历程 | 第23-25页 |
·磨料水射流抛光技术研究现状 | 第25-29页 |
·论文的研究内容 | 第29-31页 |
第二章 磨料水射流抛光系统设计 | 第31-44页 |
·CCOS基本原理 | 第31-33页 |
·CCOS的理论基础 | 第31-33页 |
·CCOS工艺对磨料水射流抛光系统的基本要求 | 第33页 |
·磨料水射流抛光装置设计 | 第33-37页 |
·抛光机床的构成 | 第34-35页 |
·抛光机床的主要规格参数和功能 | 第35页 |
·循环系统性能分析 | 第35-36页 |
·倾斜旋转喷射装置的设计 | 第36-37页 |
·喷嘴结构的优化设计 | 第37-43页 |
·喷嘴结构的理论分析 | 第38-40页 |
·喷嘴结构的仿真分析 | 第40-43页 |
·本章小结 | 第43-44页 |
第三章 磨料水射流加工材料去除机理分析 | 第44-56页 |
·射流冲击理论基础 | 第44-52页 |
·射流冲击过程描述 | 第44-46页 |
·射流冲击理论研究 | 第46-52页 |
·纯水射流及磨料水射流的对比研究 | 第52-55页 |
·实验研究 | 第52-53页 |
·仿真研究 | 第53-54页 |
·结果分析 | 第54-55页 |
·本章小结 | 第55-56页 |
第四章 去除函数的建模、优化及其修形能力分析 | 第56-72页 |
·去除函数的建模 | 第56-59页 |
·理论模型 | 第56-58页 |
·实验模型 | 第58-59页 |
·去除函数的优化 | 第59-67页 |
·现有优化方法 | 第60-62页 |
·优化模型的理论研究 | 第62-63页 |
·优化模型的实验验证 | 第63-65页 |
·模型稳定性实验分析 | 第65-67页 |
·去除函数的修形能力分析 | 第67-70页 |
·修形能力评价方法 | 第67-68页 |
·修形能力分析 | 第68-69页 |
·不同去除函数修形能力的比较 | 第69-70页 |
·本章小结 | 第70-72页 |
第五章 工艺研究及射流流场分析 | 第72-91页 |
·工艺参数对材料去除率的影响 | 第72-79页 |
·喷射角度对去除率的影响 | 第72-73页 |
·喷射距离对去除率的影响 | 第73-74页 |
·喷射压力对去除率的影响 | 第74页 |
·磨料种类对去除率的影响 | 第74-76页 |
·磨料浓度对去除率的影响 | 第76页 |
·工艺参数影响分析 | 第76-79页 |
·工艺参数对表面粗糙度的影响 | 第79-83页 |
·喷射角度对表面粗糙度的影响 | 第79-80页 |
·喷射距离对表面粗糙度的影响 | 第80页 |
·喷射压力对表面粗糙度的影响 | 第80-81页 |
·磨料种类对表面粗糙度的影响 | 第81-82页 |
·磨料浓度对表面粗糙度的影响 | 第82页 |
·工艺参数影响分析 | 第82-83页 |
·定位工艺优化 | 第83-85页 |
·定位工艺优化方法 | 第83-84页 |
·定位工艺优化实验 | 第84-85页 |
·冲击射流流场分析 | 第85-89页 |
·数值模拟的理论基础 | 第85-87页 |
·模型建立 | 第87页 |
·边界设定 | 第87-88页 |
·计算结果分析 | 第88-89页 |
·本章小结 | 第89-91页 |
第六章 磨料水射流抛光试验 | 第91-111页 |
·试验设备简介 | 第91-92页 |
·周期性刀痕去除试验 | 第92-98页 |
·试验研究背景 | 第92-93页 |
·试验设计 | 第93-94页 |
·试验结果 | 第94-98页 |
·不锈钢表面抛光试验 | 第98-102页 |
·试验研究背景 | 第98-99页 |
·试验设计 | 第99-100页 |
·试验结果 | 第100-102页 |
·矩形平面修形试验 | 第102-106页 |
·驻留时间算法研究 | 第102-104页 |
·试验设计 | 第104页 |
·试验结果 | 第104-106页 |
·圆形平面修形试验研究 | 第106-109页 |
·试验设计 | 第106-107页 |
·试验结果 | 第107-109页 |
·本章小结 | 第109-111页 |
第七章 总结与展望 | 第111-114页 |
·全文总结 | 第111-112页 |
·研究展望 | 第112-114页 |
致谢 | 第114-116页 |
参考文献 | 第116-122页 |
作者在学期间取得的学术成果 | 第122页 |