| 致谢 | 第4-5页 |
| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第12-36页 |
| 1.1 研究背景与意义 | 第12-13页 |
| 1.2 电解水及光电解水析氢概述 | 第13-21页 |
| 1.2.1 电解水析氢的原理 | 第13-15页 |
| 1.2.2 碱性溶液中电解水析氢材料的研究进展 | 第15-17页 |
| 1.2.3 光电解水析氢的原理 | 第17-18页 |
| 1.2.4 光电解水阴极材料的研究进展 | 第18-21页 |
| 1.3 硅基光电阴极在光电解水析氢领域的应用 | 第21-34页 |
| 1.3.1 研究概述 | 第21-23页 |
| 1.3.2 硅的表面织构 | 第23-27页 |
| 1.3.3 硅的表面修饰层 | 第27-34页 |
| 1.4 论文选题与研究思路 | 第34-36页 |
| 1.4.1 选题依据与关键科学问题 | 第34-35页 |
| 1.4.2 研究内容与研究思路 | 第35-36页 |
| 第二章 实验材料与分析方法 | 第36-41页 |
| 2.1 实验材料 | 第36-37页 |
| 2.2 实验仪器 | 第37页 |
| 2.3 样品表征 | 第37-38页 |
| 2.3.1 形貌及微观结构表征 | 第37-38页 |
| 2.3.2 晶体结构分析 | 第38页 |
| 2.3.3 元素分析 | 第38页 |
| 2.3.4 光学性能分析 | 第38页 |
| 2.4 电化学及光电化学测试体系 | 第38-41页 |
| 2.4.1 电化学测试体系 | 第38-39页 |
| 2.4.2 光电化学测试体系 | 第39-41页 |
| 第三章 无定形NiS_xO_y析氢催化剂的制备与性能评价 | 第41-50页 |
| 3.1 引言 | 第41页 |
| 3.2 无定形NiS_xO_y/石墨片复合电极的制备 | 第41-42页 |
| 3.3 实验结果与讨论 | 第42-49页 |
| 3.3.1 无定形NiS_xO_y析氢催化剂的生成机理与形貌分析 | 第42-45页 |
| 3.3.2 无定形NiS_xO_y/石墨片析氢电极的电化学性能评价 | 第45-47页 |
| 3.3.3 无定形NiS_xO_y析氢催化剂的光学性质 | 第47-49页 |
| 3.4 本章小结 | 第49-50页 |
| 第四章 n~+p-Si/Ti/NiS_xO_y光电析氢阴极的制备与性能评价 | 第50-69页 |
| 4.1 引言 | 第50页 |
| 4.2 n~+p-Si/Ti/NiS_xO_y光电析氢阴极的制备 | 第50-51页 |
| 4.3 结果与分析 | 第51-67页 |
| 4.3.1 n~+p-Si/Ti/NiS_xO_y光电析氢阴极的形貌和组分分析 | 第51-57页 |
| 4.3.2 n~+p-Si/Ti/NiS_xO_y光电析氢阴极的光学性质 | 第57-58页 |
| 4.3.3 n~+p-Si/Ti/NiS_xO_y光电析氢阴极的析氢性能评价 | 第58-64页 |
| 4.3.4 沉积圈数对n~+p-Si/Ti/NiS_xO_y光电析氢阴极的性能的影响 | 第64-66页 |
| 4.3.5 n~+p-Si/TiNiS_xO_y光电析氢阴极的法拉第效率及光电转化效率 | 第66-67页 |
| 4.4 本章小结 | 第67-69页 |
| 第五章 n~+p-Si/Ti/Ni光电析氢阴极的制备与性能评价 | 第69-82页 |
| 5.1 引言 | 第69页 |
| 5.2 无定形Ni/石墨片电极及n~+p-Si/Ti/Ni光电析氢阴极的制备 | 第69-70页 |
| 5.3 实验结果与讨论 | 第70-81页 |
| 5.3.1 无定形Ni/石墨片析氢电极的组分分析和性能评价 | 第70-73页 |
| 5.3.2 n~+p-Si/Ti/Ni光电析氢阴极的结构和组分分析 | 第73-75页 |
| 5.3.3 n~+p-Si/Ti/Ni光电析氢阴极的光学性质 | 第75-76页 |
| 5.3.4 n~+p-Si/Ti/Ni光电析氢阴极的析氢性能评价 | 第76-79页 |
| 5.3.5 镀膜厚度对n~p-Si/Ni电极性能和光电转化效率的影响 | 第79-81页 |
| 5.4 本章小结 | 第81-82页 |
| 第六章 结论与建议 | 第82-85页 |
| 6.1 结论 | 第82-83页 |
| 6.2 创新点 | 第83页 |
| 6.3 存在问题与建议 | 第83-85页 |
| 参考文献 | 第85-96页 |
| 作者简历 | 第96页 |
