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羟基苯甲酸类化合物分子印迹材料的制备和性能研究

摘要第4-6页
Abstract第6-7页
第一章 绪论第11-25页
    1.1 羟基苯甲酸类第11-13页
        1.1.1 环境样品中的羟基苯甲酸类及其处理方法第11-12页
        1.1.2 植物中的羟基苯甲酸类及其分离富集方法第12-13页
    1.2 分子印迹技术第13-21页
        1.2.1 分子印迹技术概述第13-14页
        1.2.2 分子印迹技术的基本原理第14-15页
        1.2.3 分子印迹聚合物(MIPs)的组成第15-18页
        1.2.4 分子印迹聚合物的制备第18-19页
        1.2.5 分子印迹聚合物的应用第19-21页
    1.3 磁性分离第21-23页
        1.3.1 磁性分离技术概述第21页
        1.3.2 Fe_3O_4磁性粒子的制备方法第21-22页
        1.3.3 Fe_3O_4磁性粒子的SiO_2包覆第22-23页
        1.3.4 磁性分子印迹聚合物研究现状第23页
    1.4 课题的研究背景和研究内容第23-25页
        1.4.1 研究背景第23-24页
        1.4.2 研究内容第24-25页
第二章 基于Fe_3O_4@SiO_2表面分子印迹材料选择吸附水中的羟基苯甲酸类物质第25-43页
    2.1 引言第25-26页
    2.2 实验部分第26-30页
        2.2.1 试剂及仪器第26-27页
        2.2.2 磁性分子印迹聚合物的制备第27-28页
        2.2.3 吸附实验第28-30页
    2.3 结果与讨论第30-42页
        2.3.1 MMIPs的合成第30-32页
        2.3.2 表征第32-35页
        2.3.3 吸附等温线第35-36页
        2.3.4 吸附热力学第36-37页
        2.3.5 吸附动力学第37-38页
        2.3.6 吸附选择性第38-39页
        2.3.7 重复利用性第39页
        2.3.8 pH的影响第39-40页
        2.3.9 粒子量的影响第40页
        2.3.10 在实际水样中的应用第40-42页
    2.4 本章小结第42-43页
第三章 基于Fe_3O_4@mSiO_2表面分子印迹材料分离富集丁香叶中的原儿茶酸第43-61页
    3.1 引言第43页
    3.2 实验部分第43-49页
        3.2.1 试剂及仪器第43-45页
        3.2.2 磁性分子印迹聚合物的制备第45-46页
        3.2.3 吸附实验第46-49页
    3.3 结果与讨论第49-60页
        3.3.1 Fe_3O_4@mSiO_2@MIPs的合成第49-50页
        3.3.2 表征第50-53页
        3.3.3 平衡吸附第53-54页
        3.3.4 吸附等温线第54-55页
        3.3.5 吸附热力学第55-56页
        3.3.6 吸附动力学第56-57页
        3.3.7 吸附选择性第57-58页
        3.3.8 优化洗脱过程第58-59页
        3.3.9 重复利用性第59页
        3.3.10 在中药紫丁香叶中的应用第59-60页
    3.4 本章小结第60-61页
第四章 基于Fe_3O_4@mSiO_2的表面分子印迹材料测定果汁中的没食子酸第61-75页
    4.1 引言第61-62页
    4.2 实验部分第62-66页
        4.2.1 试剂及仪器第62-63页
        4.2.2 分子印迹聚合物的制备第63-64页
        4.2.3 吸附实验第64-66页
    4.3 结果与讨论第66-74页
        4.3.1 Fe_3O_4@mSiO_2@MIPs的合成第66-67页
        4.3.2 表征第67-70页
        4.3.3 平衡吸附第70页
        4.3.4 动态吸附第70-71页
        4.3.5 吸附选择性第71-72页
        4.3.6 优化洗脱过程第72页
        4.3.7 重复利用性第72-73页
        4.3.8 在果汁中的应用第73-74页
    4.4 本章小结第74-75页
结论与展望第75-77页
参考文献第77-92页
攻读学位期间主要的研究成果第92-93页
致谢第93页

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