| 摘要 | 第6-8页 |
| ABSTRACT | 第8-9页 |
| 第一章 绪论 | 第12-22页 |
| 1.1 表面增强拉曼散射机理 | 第12-18页 |
| 1.1.1 拉曼散射 | 第12-15页 |
| 1.1.2 表面增强拉曼散射 | 第15页 |
| 1.1.3 SERS增强机理 | 第15-18页 |
| 1.2 表面增强拉曼散射技术的发展及应用 | 第18-19页 |
| 1.2.1 表面增强拉曼散射基底材料的发展 | 第18页 |
| 1.2.2 表面增强拉曼散射技术的应用 | 第18-19页 |
| 1.3 氧化钨的国内外研究现状 | 第19-20页 |
| 1.4 本文主要研究内容 | 第20-22页 |
| 第二章 计算原理及实验方法 | 第22-28页 |
| 2.1 第一性原理计算方法 | 第22-24页 |
| 2.2 样品制备及表征方法 | 第24-26页 |
| 2.2.1 样品制备方法 | 第24-25页 |
| 2.2.2 样品表征方法 | 第25-26页 |
| 2.3 SERS增强因子计算 | 第26-28页 |
| 第三章 载流子掺杂对氧化钨电子结构影响的理论研究 | 第28-35页 |
| 3.1 引言 | 第28页 |
| 3.2 计算细节 | 第28-29页 |
| 3.3 计算结果及讨论 | 第29-34页 |
| 3.3.1 载流子掺杂对六方WO_3电子结构的影响 | 第29-33页 |
| 3.3.2 载流子掺杂对W_(18)O_(49)电子结构的影响 | 第33-34页 |
| 3.4 本章小结 | 第34-35页 |
| 第四章 氧空位对W_(18)O_(49)基底SERS性能影响的实验研究 | 第35-42页 |
| 4.1 引言 | 第35页 |
| 4.2 W_(18)O_(49)样品表征及SERS性能分析 | 第35-40页 |
| 4.3 本章小结 | 第40-42页 |
| 第五章 表面电子掺杂对W_(18)O_(49)基底SERS性能影响的研究 | 第42-52页 |
| 5.1 引言 | 第42页 |
| 5.2 实验结果与分析 | 第42-50页 |
| 5.2.1 贵金属负载的W_(18)O_(49)样品表征及SERS性能分析 | 第42-47页 |
| 5.2.2 供电子基团有机物修饰的W_(18)O_(49)样品表征及SERS性能分析 | 第47-50页 |
| 5.3 本章小结 | 第50-52页 |
| 第六章 总结与展望 | 第52-54页 |
| 参考文献 | 第54-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |
| 作者简历 | 第61页 |
