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助催化剂修饰Bi2WO6纳米片的合成及其光催化性能研究

摘要第4-5页
abstract第5-6页
第1章 绪论第9-16页
    1.1 研究背景第9-10页
    1.2 半导体光催化机理第10页
    1.3 提高半导体光催化效率的手段第10-14页
    1.4 选题背景与意义第14-16页
第2章 N-CQDs/Bi_2WO_6的合成及可见光下光催化降解RhB第16-33页
    2.1 前言第16-17页
    2.2 实验第17-19页
        2.2.1 N-CQDs/Bi_2WO_6半导体光催化剂的制备第17-18页
        2.2.2 催化剂的表征第18-19页
        2.2.3 光催化性能评估第19页
    2.3 结果分析与讨论第19-31页
        2.3.1 N-CQDs的形貌及荧光特性分析第19-21页
        2.3.2 N-CQDs/Bi_2WO_6的物相及组分分析第21-22页
        2.3.3 N-CQDs/Bi_2WO_6的红外结果分析第22-23页
        2.3.4 N-CQDs/Bi_2WO_6的形貌分析第23-24页
        2.3.5 N-CQDs/Bi_2WO_6的N2吸附-脱附等温曲线分析第24-25页
        2.3.6 N-CQDs/Bi_2WO_6的表面化学态分析第25-26页
        2.3.7 N-CQDs/Bi_2WO_6的光吸收性能分析第26-27页
        2.3.8 N-CQDs/Bi_2WO_6的光电性能分析第27-28页
        2.3.9 N-CQDs/Bi_2WO_6的光催化性能分析第28-29页
        2.3.10 光催化机理分析第29-31页
    2.4 本章小结第31-33页
第3章 MXene/Bi_2WO_6的制备及其光催化氧化VOCs第33-51页
    3.1 前言第33-35页
    3.2 实验第35-37页
        3.2.1 MXene/Bi_2WO_6半导体材料的制备第35页
        3.2.2 MXene/Bi_2WO_6半导体材料的表征第35-36页
        3.2.3 MXene/Bi_2WO_6半导体材料的光催化性能测试第36-37页
    3.3 结果分析与讨论第37-49页
        3.3.1 MXene/Bi_2WO_6的物相分析第38-39页
        3.3.2 MXene/Bi_2WO_6的组分分析第39-40页
        3.3.3 MXene/Bi_2WO_6的形貌分析第40-41页
        3.3.4 MXene/Bi_2WO_6表面化学态分析第41-42页
        3.3.5 MXene/Bi_2WO_6N2吸附-脱附等温曲线分析第42-43页
        3.3.6 MXene/Bi_2WO_6光电特性分析第43-44页
        3.3.7 紫外-可见漫反射光谱分析第44-45页
        3.3.8 光催化性能分析第45-46页
        3.3.9 光催化机理分析第46-49页
    3.4 本章小结第49-51页
第4章 结论第51-52页
致谢第52-53页
参考文献第53-61页
附录第61页

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