| 致谢 | 第5-6页 |
| 摘要 | 第6-7页 |
| Abstract | 第7页 |
| 第1章 绪论 | 第12-20页 |
| 1.1 课题的研究意义 | 第12页 |
| 1.2 本文涉及的石墨相氮化碳(g-C_3N_4)和类芬顿氧化简介 | 第12-18页 |
| 1.2.1 g-C3N | 第12-14页 |
| 1.2.1.1 g-C_3N_4的简介及结构特性 | 第13页 |
| 1.2.1.2 g-C_3N_4的制备方法 | 第13-14页 |
| 1.2.2 提高g-C_3N_4光催化效果的方法 | 第14-17页 |
| 1.2.2.1 金属元素掺杂 | 第14-15页 |
| 1.2.2.2 非金属元素掺杂 | 第15页 |
| 1.2.2.3 形貌调控 | 第15-16页 |
| 1.2.2.4 贵金属沉积 | 第16页 |
| 1.2.2.5 半导体复合 | 第16-17页 |
| 1.2.3 芬顿试剂 | 第17-18页 |
| 1.3 课题设计的提出及主要研究内容 | 第18-20页 |
| 1.3.1 课题设计的提出 | 第18-19页 |
| 1.3.2 论文的研究内容 | 第19-20页 |
| 第2章 α-Fe_2O_3/g-C_3N_4复合材料的合成、表征及其对As(Ⅲ)的光催化氧化-吸附协同去除性能 | 第20-32页 |
| 2.1 前言 | 第20页 |
| 2.2 实验部分 | 第20-23页 |
| 2.2.1 主要试剂与仪器 | 第20-21页 |
| 2.2.2 α-Fe_2O_3/g-C_3N_4复合材料的制备 | 第21-22页 |
| 2.2.2.1 g-C_3N_4的制备 | 第21页 |
| 2.2.2.2 α-Fe_2O_3的制备 | 第21页 |
| 2.2.2.3 α-Fe_2O_3/g-C_3N_4复合材料的制备 | 第21-22页 |
| 2.2.3 α-Fe_2O_3/g-C_3N_4复合材料的表征 | 第22页 |
| 2.2.4 α-Fe_2O_3/g-C_3N_4对As(Ⅲ)的光催化氧化-吸附性能研究 | 第22-23页 |
| 2.2.4.1 光催化氧化-吸附As(Ⅲ)动力学 | 第22页 |
| 2.2.4.2 pH值对As(Ⅲ)和As(T)去除率的影响 | 第22页 |
| 2.2.4.3 干扰离子对As(Ⅲ)和As(T)去除率的影响 | 第22-23页 |
| 2.2.4.4 材料的重复利用性能 | 第23页 |
| 2.2.4.5 光催化氧化-吸附机理 | 第23页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第23-31页 |
| 2.3.1 α-Fe_2O_3/g-C_3N_4复合材料的表征 | 第23-26页 |
| 2.3.1.1 XRD表征 | 第23-24页 |
| 2.3.1.2 透射电镜分析 | 第24-25页 |
| 2.3.1.3 紫外-可见吸收光谱分析 | 第25页 |
| 2.3.1.4 比表面积分析 | 第25-26页 |
| 2.3.2 材料的光催化氧化-吸附性能 | 第26-31页 |
| 2.3.2.1 As(Ⅲ)的光催化氧化-吸附动力学 | 第26-28页 |
| 2.3.2.2 pH对光催化氧化-吸附的影响 | 第28-29页 |
| 2.3.2.3 干扰离子对光催化氧化-吸附的影响 | 第29页 |
| 2.3.2.4 材料的重复利用性能 | 第29-30页 |
| 2.3.2.5 光催化氧化-吸附As(Ⅲ)机理研究 | 第30-31页 |
| 2.4 本章小结 | 第31-32页 |
| 第3章 AOPAN-Fe/Cu-x的合成、表征及其除砷性能的研究 | 第32-44页 |
| 3.1 前言 | 第32页 |
| 3.2 实验部分 | 第32-35页 |
| 3.2.1 主要试剂和仪器 | 第32-34页 |
| 3.2.2 AOPAN-Fe/Cu-x的合成 | 第34页 |
| 3.2.2.1 PAN的合成 | 第34页 |
| 3.2.2.2 AOPAN的合成 | 第34页 |
| 3.2.2.3 AOPAN-Fe/Cu-x的合成 | 第34页 |
| 3.2.3 AOPAN-Fe/Cu-x的表征方法 | 第34页 |
| 3.2.4 H_2O_2-AOPAN-Fe/Cu-x体系的除砷性能研究 | 第34-35页 |
| 3.2.4.1 H_2O_2-AOPAN-Fe/Cu-x的催化氧化-吸附的动力学 | 第34-35页 |
| 3.2.4.2 AOPAN-Fe/Cu-x用量对催化氧化-吸附的影响 | 第35页 |
| 3.2.4.3 H_2O_2用量对催化氧化-吸附的影响 | 第35页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第35-43页 |
| 3.3.1 AOPAN-Fe/Cu-x的表征 | 第35-39页 |
| 3.3.1.1 红外光谱表征 | 第35-36页 |
| 3.3.1.2 扫描电镜分析 | 第36-37页 |
| 3.3.1.3 比表面积表征 | 第37-38页 |
| 3.3.1.4 AOPAN-Fe/Cu-x金属离子负载量的测定 | 第38-39页 |
| 3.3.2 AOPAN-Fe/Cu-x的催化氧化-吸附性能 | 第39-43页 |
| 3.3.2.1 催化氧化-吸附动力学 | 第39-40页 |
| 3.3.2.2 AOPAN-Fe/Cu-3:1用量对催化氧化-吸附的影响 | 第40页 |
| 3.3.2.3 H_2O_2的用量对催化氧化-吸附的影响 | 第40-41页 |
| 3.3.2.4 pH对催化氧化-吸附的影响 | 第41-42页 |
| 3.3.2.5 As(Ⅲ)的初始浓度对催化氧化-吸附的影响 | 第42页 |
| 3.3.2.6 干扰离子对催化氧化-吸附的影响 | 第42-43页 |
| 3.4 本章小结 | 第43-44页 |
| 第4章 AOPAN-Fe/Cu-x的合成、表征及其去除甲基橙的研究 | 第44-49页 |
| 4.1 前言 | 第44页 |
| 4.2 实验部分 | 第44-45页 |
| 4.2.1 主要试剂和仪器 | 第44页 |
| 4.2.2 AOPAN-Fe/Cu-x的合成与表征 | 第44页 |
| 4.2.3 H_2O_2-AOPAN-Fe/Cu-x催化降解MO | 第44-45页 |
| 4.2.3.1 催化降解动力学 | 第44页 |
| 4.2.3.2 AOPAN-Fe/Cu-x用量对催化降解的影响 | 第44-45页 |
| 4.2.3.2 AOPAN-Fe/Cu-3:1的重复利用性能 | 第45页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第45-48页 |
| 4.3.1 催化降解动力学实验 | 第45-48页 |
| 4.3.1.2 AOPAN-Fe/Cu-3:1用量对催化降解的影响 | 第45-46页 |
| 4.3.1.3 H_2O_2的用量对催化降解的影响 | 第46-47页 |
| 4.3.1.4 pH对催化降解的影响 | 第47页 |
| 4.3.1.5 甲基橙的初始浓度对催化降解的影响 | 第47-48页 |
| 4.3.1.6 材料的重复利用性能 | 第48页 |
| 4.4 本章小结 | 第48-49页 |
| 第5章 结语 | 第49-50页 |
| 参考文献 | 第50-56页 |
| 作者简历 | 第56页 |
