| 摘要 | 第3-4页 |
| ABSTRACT | 第4-5页 |
| 目录 | 第6-9页 |
| 第一章 文献综述 | 第9-22页 |
| 1.1 光催化氧化技术国内外研究现状 | 第10-11页 |
| 1.2 半导体Ti0_2 光催化氧化机理 | 第11-14页 |
| 1.3 Ti0_2 光催化剂的改性 | 第14-20页 |
| 1.3.1 离子掺杂 | 第14-17页 |
| 1.3.1.1 过渡金属离子掺杂 | 第14-15页 |
| 1.3.1.2 非金属离子掺杂 | 第15-16页 |
| 1.3.1.3 离子共掺杂 | 第16-17页 |
| 1.3.2 半导体表面沉积贵金属 | 第17页 |
| 1.3.3 复合窄带半导体 | 第17-19页 |
| 1.3.4 染料光敏化 | 第19-20页 |
| 1.4 选题目的及主要内容 | 第20-22页 |
| 第二章 CTAB 增溶剂法制备 Bi_20_3-Ti0_2 复合半导体及用于可见光光催化实验 | 第22-46页 |
| 2.1 实验部分 | 第22-25页 |
| 2.1.1 实验材料 | 第22-23页 |
| 2.1.2 实验仪器 | 第23-24页 |
| 2.1.3 Bi_20_3-Ti0_2 复合半导体的制备方法 | 第24-25页 |
| 2.2 催化剂的表征 | 第25-26页 |
| 2.2.1 X-射线光电子能谱（XPS） | 第25页 |
| 2.2.2 X 射线衍射（XRD） | 第25页 |
| 2.2.3 透射电镜（TEM） | 第25页 |
| 2.2.4 紫外-可见漫反射光谱（UV-Vis DRS） | 第25-26页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第26-34页 |
| 2.3.1 XPS 分析 | 第26-28页 |
| 2.3.2 TEM 和HRTEM 分析 | 第28-30页 |
| 2.3.3 XRD 分析 | 第30-32页 |
| 2.3.4 UV-vis DRS 分析 | 第32-34页 |
| 2.4 光催化活性评价 | 第34-45页 |
| 2.4.1 甲基橙溶液PH 值的影响 | 第34-37页 |
| 2.4.1.1 实验方法 | 第35页 |
| 2.4.1.2 样品分析方法 | 第35页 |
| 2.4.1.3 结果分析 | 第35-37页 |
| 2.4.2 Bi-Ti 原子比和焙烧温度对光催化活性的影响 | 第37-44页 |
| 2.4.2.1 实验装置 | 第37-38页 |
| 2.4.2.2 实验方法 | 第38-39页 |
| 2.4.2.3 空白实验 | 第39-40页 |
| 2.4.2.4 Bi-Ti 原子比影响 | 第40-41页 |
| 2.4.2.5 焙烧温度影响 | 第41-42页 |
| 2.4.2.6 复合光催化剂的光稳定性 | 第42-44页 |
| 2.4.3 复合半导体光生电荷有效分离的机理 | 第44-45页 |
| 2.5 小结 | 第45-46页 |
| 第三章 乙二醇络合缩聚法制备Bi_20_3-Ti0_2复合半导体及用于可见光光催化实验 | 第46-63页 |
| 3.1 前言 | 第46-47页 |
| 3.2 实验部分 | 第47-50页 |
| 3.2.1 实验材料 | 第47页 |
| 3.2.2 实验仪器 | 第47-48页 |
| 3.2.3 Bi_20_3-Ti0_2 复合半导体的制备方法 | 第48-50页 |
| 3.3 络合缩聚机理分析 | 第50-52页 |
| 3.4 光催化剂的表征 | 第52-53页 |
| 3.4.1 XPS | 第52页 |
| 3.4.2 XRD | 第52-53页 |
| 3.4.3 BET | 第53页 |
| 3.4.4 HRTEM | 第53页 |
| 3.4.5 UV-vis DRS | 第53页 |
| 3.4.6 FT-IR spectra | 第53页 |
| 3.5 结果与讨论 | 第53-59页 |
| 3.5.1 XPS 分析 | 第53-56页 |
| 3.5.2 XRD 分析 | 第56-57页 |
| 3.5.3 BET 分析 | 第57-58页 |
| 3.5.4 HRTEM 分析 | 第58页 |
| 3.5.5 UV-vis DRS 分析 | 第58-59页 |
| 3.6 活性评价 | 第59-62页 |
| 3.6.1 实验装置 | 第59页 |
| 3.6.2 实验步骤 | 第59-60页 |
| 3.6.3 空白实验 | 第60页 |
| 3.6.4 结果与讨论 | 第60-62页 |
| 3.7 小结 | 第62-63页 |
| 第四章 结论与展望 | 第63-65页 |
| 4.1 结论 | 第63-64页 |
| 4.2 展望 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-71页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第71-72页 |
| 致谢 | 第72页 |
