纯铁高频低压等离子体浸没离子注入及氮化研究
| 摘要 | 第1-9页 |
| Abstract | 第9-13页 |
| 第1章 绪论 | 第13-22页 |
| ·金属铀的腐蚀与防护 | 第13-14页 |
| ·等离子体浸没离子注入(PⅢ)技术 | 第14-19页 |
| ·等离子体浸没离子注入(PⅢ)技术的原理 | 第14-16页 |
| ·等离子体浸没离子注入的应用 | 第16页 |
| ·高频低压等离子体浸没离子注入(HLPⅢ) | 第16-18页 |
| ·高频低压等离子体浸没离子注入及氮化技术的应用 | 第18-19页 |
| ·本论文的研究目的及内容 | 第19-22页 |
| ·研究目的 | 第19页 |
| ·研究内容 | 第19-22页 |
| 第2章 实验方法及原理 | 第22-26页 |
| ·样品制备 | 第22页 |
| ·改性层结构及成分分析 | 第22-23页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第22页 |
| ·X射线光电子能谱(XPS) | 第22页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第22-23页 |
| ·X射线能量色散谱(EDX) | 第23页 |
| ·改性层机械性能评价 | 第23-24页 |
| ·显微硬度测量 | 第23页 |
| ·摩擦磨损性能评价 | 第23-24页 |
| ·耐腐蚀性能评价 | 第24-26页 |
| ·电化学极化腐蚀 | 第24页 |
| ·改性层致密度 | 第24-26页 |
| 第3章 HLPⅢ氮化技术对工业纯铁性能的影响 | 第26-46页 |
| ·射频功率对工业纯铁性能的影响 | 第26-34页 |
| ·XRD结果分析 | 第26-27页 |
| ·断面组织形貌及EDX能谱分析 | 第27-28页 |
| ·XPS结果分析 | 第28-29页 |
| ·显微硬度结果分析 | 第29-30页 |
| ·摩擦磨损性能分析 | 第30-32页 |
| ·电化学腐蚀及致密度结果分析 | 第32-34页 |
| ·氧分压对工业纯铁性能的影响 | 第34-45页 |
| ·XRD结果分析 | 第35-36页 |
| ·XPS结果分析 | 第36-39页 |
| ·显微硬度结果分析 | 第39-40页 |
| ·摩擦磨损性能分析 | 第40-42页 |
| ·电化学腐蚀及致密度结果分析 | 第42-45页 |
| ·小结 | 第45-46页 |
| 第4章 球形试样表面氮化层性能的研究 | 第46-59页 |
| ·脉冲频率对球表面均匀性的影响 | 第46-56页 |
| ·XRD结果分析 | 第47-48页 |
| ·显微硬度结果分析 | 第48-49页 |
| ·摩擦磨损性能分析 | 第49-54页 |
| ·耐腐蚀性能分析 | 第54-56页 |
| ·脉冲频率对球表面性能的影响 | 第56-58页 |
| ·XRD结果分析 | 第57页 |
| ·显微硬度结果分析 | 第57页 |
| ·摩擦磨损性能分析 | 第57-58页 |
| ·耐腐蚀性能分析 | 第58页 |
| ·小结 | 第58-59页 |
| 工作展望 | 第59-61页 |
| 结论 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-68页 |
| 攻读硕士期间发表的论文 | 第68页 |
