反射式光栅复制方法研究与开发
| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5页 |
| 第一章 绪论 | 第8-11页 |
| 1.1 光栅的应用现状 | 第8-9页 |
| 1.2 光栅制作在国内外的研究现状 | 第9页 |
| 1.3 本课题的研究意义和研究内容 | 第9-11页 |
| 第二章 光栅衍射的基本理论和设计 | 第11-30页 |
| 2.1 严格耦合波理论分析 | 第11-19页 |
| 2.1.1 TE 偏振 | 第13-16页 |
| 2.1.2 TM 偏振 | 第16-19页 |
| 2.2 模式方法理论分析 | 第19-22页 |
| 2.2.1 表示 | 第19-21页 |
| 2.2.2 模式干涉 | 第21-22页 |
| 2.3 光栅设计软件介绍 | 第22-25页 |
| 2.3.1 Gsolver 软件功能 | 第22页 |
| 2.3.2 Gsolver 中光栅模拟设计步骤 | 第22-25页 |
| 2.4 1200 线平面反射式光栅设计 | 第25-29页 |
| 2.4.1 设计思路 | 第25-26页 |
| 2.4.2 Gsolver 中光栅模拟设计步骤 | 第26-29页 |
| 2.5 本章小结 | 第29-30页 |
| 第三章 反射光栅母板制作方法的研究 | 第30-42页 |
| 3.1 全息光路 | 第30-32页 |
| 3.2 刻蚀技术 | 第32-37页 |
| 3.2.1 湿法刻蚀 | 第33-34页 |
| 3.2.2 干法刻蚀 | 第34-37页 |
| 3.3 全息-刻蚀光栅制作 | 第37-41页 |
| 3.3.1 清洗 | 第37-38页 |
| 3.3.2 匀胶 | 第38页 |
| 3.3.3 全息曝光 | 第38-39页 |
| 3.3.4 显影 | 第39页 |
| 3.3.5 刻蚀 | 第39-40页 |
| 3.3.6 测试 | 第40-41页 |
| 3.4 本章小结 | 第41-42页 |
| 第四章 光栅复制制作方法的研究 | 第42-59页 |
| 4.1 光栅复制方法 | 第42-43页 |
| 4.2 分离层的影响 | 第43-47页 |
| 4.3 胶层的影响 | 第47页 |
| 4.4 反射膜层的影响 | 第47-51页 |
| 4.4.1 光学薄膜制作 | 第47-49页 |
| 4.4.2 膜层厚度影响 | 第49-51页 |
| 4.5 复制光栅的胶合分离 | 第51-52页 |
| 4.6 测试结果 | 第52-58页 |
| 4.6.1 形貌测试 | 第52-53页 |
| 4.6.2 性能测试 | 第53-58页 |
| 4.7 小结 | 第58-59页 |
| 第五章 总结与展望 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-62页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第62-63页 |
| 致谢 | 第63页 |
