低损耗大尺寸微波单晶薄膜外延及原位集成器件技术
| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-19页 |
| 1.1 引言 | 第10-11页 |
| 1.2 石榴石YIG微波薄膜发展趋势 | 第11-14页 |
| 1.3 钇铁石榴石材料应用方向 | 第14-15页 |
| 1.4 环行器分类以及发展现状 | 第15-16页 |
| 1.5 研究目的及意义 | 第16-17页 |
| 1.6 论文结构安排 | 第17-19页 |
| 第二章 钇铁石榴石材料概述 | 第19-31页 |
| 2.1 引言 | 第19页 |
| 2.2 钇铁石榴石(YIG)材料介绍及性能指标 | 第19-25页 |
| 2.2.1 YIG晶体结构以及取代方式 | 第19-20页 |
| 2.2.2 钇铁石榴石材料磁性来源 | 第20-22页 |
| 2.2.3 铁磁共振现象 | 第22-24页 |
| 2.2.4 薄膜磁各向异性来源 | 第24-25页 |
| 2.3 射频磁控溅射 | 第25-27页 |
| 2.3.1 溅射薄膜组分分析 | 第25-26页 |
| 2.3.2 退火工艺 | 第26-27页 |
| 2.4 液相外延 | 第27-30页 |
| 2.4.1 溶质分类 | 第27页 |
| 2.4.2 外延单晶生长机理 | 第27-29页 |
| 2.4.3 包晶生长过程 | 第29-30页 |
| 2.5 本章小结 | 第30-31页 |
| 第三章 YIG单晶薄膜的制备 | 第31-52页 |
| 3.1 引言 | 第31-32页 |
| 3.2 气相外延YIG单晶薄膜 | 第32-41页 |
| 3.2.1 靶材制备 | 第33-34页 |
| 3.2.2 退火对YIG薄膜性能影响 | 第34-38页 |
| 3.2.3 镧掺杂对薄膜的影响 | 第38-41页 |
| 3.3 液相外延YIG微波单晶薄膜 | 第41-50页 |
| 3.3.1 熔体配制原理及方法 | 第41-43页 |
| 3.3.2 衬底准备 | 第43-44页 |
| 3.3.3 转速对生长的影响 | 第44-48页 |
| 3.3.4 衬底晶向对外延膜性能影响 | 第48-50页 |
| 3.4 厚La-YIG薄膜制备 | 第50-51页 |
| 3.5 本章小结 | 第51-52页 |
| 第四章 环行器设计制作和应用 | 第52-70页 |
| 4.1 引言 | 第52页 |
| 4.2 铁氧体环行器设计 | 第52-56页 |
| 4.2.1 环行器环行条件推导 | 第53-54页 |
| 4.2.2 共面波导环行器初值 | 第54-56页 |
| 4.3 环行器设计仿真 | 第56-57页 |
| 4.4 光刻 | 第57-61页 |
| 4.4.1 掩膜版设计 | 第57-58页 |
| 4.4.2 光刻流程 | 第58-60页 |
| 4.4.3 信号线制作 | 第60-61页 |
| 4.5 环行器测试部分 | 第61-68页 |
| 4.5.1 测试设备介绍 | 第61-62页 |
| 4.5.2 偏置磁场提供方法 | 第62页 |
| 4.5.3 测试结果及结果分析 | 第62-68页 |
| 4.6 发射机设计 | 第68-69页 |
| 4.7 本章小结 | 第69-70页 |
| 第五章 全文总结与展望 | 第70-72页 |
| 5.1 全文总结 | 第70-71页 |
| 5.2 后续工作展望 | 第71-72页 |
| 致谢 | 第72-73页 |
| 参考文献 | 第73-77页 |
| 攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第77-78页 |
