| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-11页 |
| 第二章 文献综述 | 第11-23页 |
| 2.1 氮化硅纳米颗粒 | 第11-15页 |
| 2.1.1 氮化硅纳米颗粒的应用 | 第11-14页 |
| 2.1.2 氮化硅纳米颗粒的制备 | 第14-15页 |
| 2.2 锗纳米颗粒 | 第15-20页 |
| 2.2.1 锗纳米颗粒的性质 | 第15-18页 |
| 2.2.2 锗纳米颗粒的制备 | 第18-19页 |
| 2.2.3 锗纳米颗粒的掺杂 | 第19-20页 |
| 2.3 本论文的研究目的和研究内容 | 第20-23页 |
| 第三章 实验内容和测试仪器 | 第23-29页 |
| 3.1 实验内容和实验方案 | 第23-24页 |
| 3.1.1 氮化硅纳米颗粒的制备和成膜 | 第23页 |
| 3.1.2 锗纳米颗粒的制备磷、硼掺杂 | 第23-24页 |
| 3.2 测试仪器和设备 | 第24-29页 |
| 3.2.1 X射线衍射仪 | 第24页 |
| 3.2.2 高分辨率透射电子显微镜 | 第24-25页 |
| 3.2.3 X射线光电子能谱仪 | 第25页 |
| 3.2.4 傅里叶变换红外光谱仪 | 第25页 |
| 3.2.5 X电感耦合等离子体发射光谱仪 | 第25页 |
| 3.2.6 场发射扫面电子显微镜 | 第25-26页 |
| 3.2.7 元素分析仪 | 第26页 |
| 3.2.8 全自动比表面积和孔隙分析仪 | 第26页 |
| 3.2.9 旋涂仪 | 第26-27页 |
| 3.2.10 真空手套箱 | 第27-29页 |
| 第四章 利用冷离子体法制备纳米颗粒 | 第29-35页 |
| 4.1 引言 | 第29页 |
| 4.2 等离子体概述 | 第29-32页 |
| 4.2.1 等离子体的性质 | 第29-31页 |
| 4.2.2 等离子体的放电方式 | 第31页 |
| 4.2.3 冷等离子体制备纳米颗粒的特点 | 第31-32页 |
| 4.3 冷等离子体法制备纳米颗粒的设备 | 第32-33页 |
| 4.4 本章小结 | 第33-35页 |
| 第五章 氮化硅纳米颗粒 | 第35-43页 |
| 5.1 引言 | 第35页 |
| 5.2 实验 | 第35-37页 |
| 5.2.1 氮化硅纳米颗粒的制备 | 第35-36页 |
| 5.2.2 氮化硅纳米颗粒的热处理 | 第36页 |
| 5.2.3 氮化硅纳米颗粒的成膜 | 第36-37页 |
| 5.3 数据分析 | 第37-40页 |
| 5.3.1 氮化硅纳米颗粒的结构表征 | 第37-38页 |
| 5.3.2 氮化硅纳米颗粒在不同试验参数下的硅氮比 | 第38-39页 |
| 5.3.3 氮化硅纳米颗粒的成膜 | 第39-40页 |
| 5.4 本章小结 | 第40-43页 |
| 第六章 锗纳米颗粒的硼、磷掺杂 | 第43-55页 |
| 6.1 引言 | 第43页 |
| 6.2 实验 | 第43-45页 |
| 6.2.1 掺磷和掺硼锗纳米颗粒的制备 | 第43-44页 |
| 6.2.2 掺磷和掺磷锗纳米颗粒的氧化 | 第44-45页 |
| 6.2.3 掺磷和掺硼锗纳米颗粒的氧化酸刻蚀 | 第45页 |
| 6.3 数据分析 | 第45-52页 |
| 6.3.1 掺杂元素在锗纳米颗粒中的掺杂位置 | 第45-47页 |
| 6.3.2 磷掺杂和硼掺杂的锗纳米颗粒的结构表征 | 第47-49页 |
| 6.3.3 磷掺杂和硼掺杂的锗纳米颗粒的氧化特性 | 第49-52页 |
| 6.4 本章小结 | 第52-55页 |
| 第七章 全文结论 | 第55-57页 |
| 参考文献 | 第57-63页 |
| 致谢 | 第63-65页 |
| 个人简历 | 第65-67页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文与取得的其它研究成果 | 第67页 |