摘要 | 第4-5页 |
ABSTRACT | 第5-6页 |
第一章绪论 | 第7-18页 |
1.1 概述 | 第7页 |
1.2 金属有机结构化合物 | 第7-14页 |
1.2.1 金属有机配位材料的研究现状及结构 | 第8-9页 |
1.2.2 金属有机配位化合物的制备方法 | 第9-11页 |
1.2.3 金属有机配位化合物的功能 | 第11-14页 |
1.3 影响金属有机配位化合物合成的因素 | 第14页 |
1.4 含羧基有机配体的金属有机配位化合物 | 第14页 |
1.5 金属有机配位化合物主要作用 | 第14-16页 |
1.6 本文的研究目的和内容 | 第16-18页 |
1.6.1 研究目的 | 第16页 |
1.6.2 研究内容 | 第16-18页 |
第二章实验方法和仪器设备 | 第18-25页 |
2.1 实验试剂 | 第18页 |
2.2 实验主要设备 | 第18-19页 |
2.3 实验方案 | 第19页 |
2.4 实验表征方法和条件 | 第19-25页 |
2.4.1X射线粉末衍射法(XRPD) | 第19-20页 |
2.4.2 热重分析(TGA) | 第20页 |
2.4.3 扫描电子显微镜(SEM) | 第20-21页 |
2.4.4 透射电子显微镜(TEM) | 第21-22页 |
2.4.5 低温N2吸附-脱附测量 | 第22-23页 |
2.4.6 电化学阻抗谱测试 | 第23-25页 |
第三章基于MOFS的介孔钇掺杂氧化锆合成及表征 | 第25-50页 |
3.1 钇掺杂氧化锆的合成 | 第25-26页 |
3.1.1 8%钇掺杂氧化锆的合成 | 第25页 |
3.1.2 30%钇掺杂氧化锆的合成 | 第25页 |
3.1.3 50%钇掺杂氧化锆的合成 | 第25-26页 |
3.1.4 100%钇掺杂氧化锆YSZ(MOFS)的合成 | 第26页 |
3.2 所合成的样品的X射线粉末衍射表征 | 第26-31页 |
3.3 TEM表征 | 第31-36页 |
3.4 SEM表征 | 第36-39页 |
3.5 氮气吸脱附、孔分布分析 | 第39-45页 |
3.6 XPS分析 | 第45-48页 |
3.7 TG分析 | 第48页 |
3.8 小结 | 第48-50页 |
第四章不同比列钇掺杂氧化锆氧离子导电性研究 | 第50-56页 |
4.1 介孔钇掺杂氧化锆氧离子电导率测量 | 第50-55页 |
4.3 小结 | 第55-56页 |
第五章结论和展望 | 第56-58页 |
5.1 结论 | 第56页 |
5.2 展望 | 第56-58页 |
致谢 | 第58-59页 |
参考文献 | 第59-62页 |
附录 | 第62-63页 |