| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第11-33页 |
| 1.1 引言 | 第11-12页 |
| 1.2 利用浸润性构筑一维纳米材料 | 第12-20页 |
| 1.2.1 固体表面的浸润性 | 第12-13页 |
| 1.2.2 表面超疏的理论模型 | 第13-15页 |
| 1.2.3 基于浸润性调控微纳结构的组装 | 第15-20页 |
| 1.3 QLEDs器件及其图案化的发展 | 第20-31页 |
| 1.3.1 QLEDs器件中量子点层的图案化 | 第23-30页 |
| 1.3.2 QLEDs器件中电极层的图案化 | 第30-31页 |
| 1.4 本论文研究的目的、思路及内容 | 第31-33页 |
| 1.4.1 本论文研究的目的及思路 | 第31页 |
| 1.4.2 本论文的主要内容 | 第31-33页 |
| 第二章 基于超疏水模板法银纳米颗粒一维纳米线阵列的制备 | 第33-48页 |
| 2.1 引言 | 第33-34页 |
| 2.2 实验部分 | 第34-37页 |
| 2.2.1 试剂与药品 | 第34页 |
| 2.2.2 仪器与测试 | 第34-35页 |
| 2.2.3 超疏水模板的制备 | 第35页 |
| 2.2.4 银纳米颗粒的制备 | 第35页 |
| 2.2.5 银纳米线阵列的制备 | 第35-36页 |
| 2.2.6 纳米线基底的性能测试 | 第36-37页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第37-47页 |
| 2.3.1 银纳米颗粒的制备及表征 | 第37-39页 |
| 2.3.2 超疏水条形硅柱模板的制备及表征 | 第39-41页 |
| 2.3.3 超疏水模板法一维纳米线阵列的组装 | 第41-44页 |
| 2.3.4 孵化条件对组装结构的调控作用 | 第44-46页 |
| 2.3.5 银纳米线制备电极的性能测试 | 第46-47页 |
| 2.4 本章小结 | 第47-48页 |
| 第三章 量子点一维阵列结构的构筑及其在QLEDs器件中的应用 | 第48-62页 |
| 3.1 前言 | 第48-49页 |
| 3.2 实验部分 | 第49-51页 |
| 3.2.1 试剂与药品 | 第49页 |
| 3.2.2 仪器与测试 | 第49页 |
| 3.2.3 差异性模板的制备 | 第49-50页 |
| 3.2.4 QLEDs器件中量子点层图案化的制备 | 第50页 |
| 3.2.5 带有图案化量子点层的QLEDs器件中的组装 | 第50-51页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第51-60页 |
| 3.3.1 量子点溶液的制备及表征 | 第51-52页 |
| 3.3.2 量子点层图案化的制备及表征 | 第52-59页 |
| 3.3.3 图案化QLEDs器件的制备及表征 | 第59-60页 |
| 3.4 本章小结 | 第60-62页 |
| 第四章 光刻胶模板作为浸润性差异的模板制备一维纳米线阵列 | 第62-73页 |
| 4.1 引言 | 第62-64页 |
| 4.2 实验部分 | 第64-66页 |
| 4.2.1 试剂与药品 | 第64页 |
| 4.2.2 仪器与测试 | 第64-65页 |
| 4.2.3 光刻胶模板的制备 | 第65页 |
| 4.2.4 光刻胶模板的表面修饰 | 第65-66页 |
| 4.2.5 光刻胶模板诱导一维纳米线阵列的组装 | 第66页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第66-72页 |
| 4.3.1 光刻胶模板的制备及表征 | 第66-70页 |
| 4.3.2 超疏水光刻胶模板的制备及表征 | 第70-71页 |
| 4.3.3 光刻胶模板组装一维纳米结构及表征 | 第71-72页 |
| 4.4 本章小结 | 第72-73页 |
| 总结与展望 | 第73-74页 |
| 总结 | 第73页 |
| 展望 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-83页 |
| 攻读硕士学位期间的科研成果 | 第83-84页 |
| 致谢 | 第84-86页 |
