| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 1 绪论 | 第8-19页 |
| 1.1 硬质薄膜材料简介及Ti-Si-N薄膜的研究现状 | 第8-12页 |
| 1.2 制备Ti-Si-N薄膜的主要工艺方法 | 第12-14页 |
| 1.2.1 化学气相沉积 | 第12页 |
| 1.2.2 物理气相沉积 | 第12-14页 |
| 1.3 Ti-Si-N薄膜的主要测试表征手段 | 第14-18页 |
| 1.4 本课题的研究内容和意义 | 第18-19页 |
| 2 实验设备、工艺方法以及测试表征手段 | 第19-26页 |
| 2.1 磁控溅射系统 | 第19-23页 |
| 2.1.1 JGP-280型高真空单靶磁控溅射系统 | 第19-21页 |
| 2.1.2 JGP-450A型高真空三靶磁控溅射系统 | 第21-23页 |
| 2.2 Ti-Si-N薄膜的制备工艺 | 第23-26页 |
| 2.2.1 基片的选择与预处理 | 第23页 |
| 2.2.2 靶材的选择与制作 | 第23-24页 |
| 2.2.3 Ti-Si-N薄膜的制备流程 | 第24-25页 |
| 2.2.4 测试表征方法 | 第25-26页 |
| 3 溅射气压对Ti-Si-N薄膜的影响 | 第26-29页 |
| 3.1 Ti-Si-N薄膜制备工艺 | 第26页 |
| 3.2 溅射气压对薄膜性质的影响 | 第26-29页 |
| 3.2.1 厚度分析 | 第26-27页 |
| 3.2.2 表面形貌分析 | 第27-28页 |
| 3.2.3 硬度分析 | 第28-29页 |
| 4 N_2流量对Ti-Si-N薄膜的影响 | 第29-33页 |
| 4.1 Ti-Si-N薄膜制备工艺 | 第29-30页 |
| 4.2 N_2流量对Ti-Si-N薄膜性质的影响 | 第30-33页 |
| 4.2.1 成分分析 | 第30页 |
| 4.2.2 厚度分析 | 第30-31页 |
| 4.2.3 表面形貌分析 | 第31-32页 |
| 4.2.4 硬度分析 | 第32-33页 |
| 5 Si靶功率对Ti-Si-N薄膜性质的影响 | 第33-39页 |
| 5.1 Ti-Si-N薄膜制备工艺 | 第33页 |
| 5.2 Si靶功率对Ti-Si-N薄膜性质的影响 | 第33-39页 |
| 5.2.1 成分分析 | 第33-34页 |
| 5.2.2 XRD分析 | 第34-35页 |
| 5.2.3 表面形貌分析 | 第35-36页 |
| 5.2.4 硬度分析 | 第36-37页 |
| 5.2.5 膜基结合力分析 | 第37-39页 |
| 6 负偏压对Ti-Si-N薄膜性质的影响 | 第39-44页 |
| 6.1 Ti-Si-N薄膜制备工艺 | 第39页 |
| 6.2 负偏压对Ti-Si-N薄膜性质的影响 | 第39-44页 |
| 6.2.1 成分分析 | 第39-40页 |
| 6.2.2 沉积速率分析 | 第40-41页 |
| 6.2.3 硬度分析 | 第41-42页 |
| 6.2.4 膜基结合力分析 | 第42-44页 |
| 结论 | 第44-45页 |
| 参考文献 | 第45-49页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第49-50页 |
| 致谢 | 第50-51页 |
