摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-9页 |
引言 | 第9-10页 |
1 文献综述 | 第10-27页 |
·红外光谱技术概述 | 第10-17页 |
·红外光谱发展的概述 | 第10-11页 |
·红外光谱技术的原理 | 第11页 |
·透射光谱技术(FTIR) | 第11-12页 |
·漫反射光谱技术(DRIFTS) | 第12-15页 |
·反射吸收光谱技术(FTIR-RAS) | 第15页 |
·发射光谱技术(FTIR-ES) | 第15-16页 |
·光声光谱技术(FTIR-PAS) | 第16-17页 |
·红外光谱技术在多相催化研究中的应用 | 第17-24页 |
·骨架结构红外光谱研究 | 第17-19页 |
·表面酸性 | 第19-21页 |
·羟基 | 第21-22页 |
·表面吸附态 | 第22-23页 |
·红外光谱技术的应用进展 | 第23-24页 |
·羟基的研究 | 第24-26页 |
·铝羟基的研究 | 第24-25页 |
·硅羟基的研究 | 第25-26页 |
·选题依据 | 第26-27页 |
2 实验部分 | 第27-29页 |
·傅里叶红外光谱仪 | 第27页 |
·双光束红外吸收池 | 第27-28页 |
·实验材料 | 第28页 |
·实验方法及步骤 | 第28页 |
·数据处理及分析方法 | 第28-29页 |
3 不同类型沸石分子筛的红外表征 | 第29-44页 |
·引言 | 第29页 |
·不同类型沸石分子筛的XRD表征 | 第29-31页 |
·不同类型沸石分子筛骨架结构 | 第31-34页 |
·不同类型沸石分子筛羟基振动光谱 | 第34-42页 |
·本章小结 | 第42-44页 |
4 TS-1的羟基振动 | 第44-62页 |
·引言 | 第44页 |
·TS-1样品羟基振动谱图的唯一性 | 第44-47页 |
·样品片厚度对样品羟基振动的影响 | 第44-45页 |
·不同摄谱部位对样品羟基振动的影响 | 第45-46页 |
·不同合成批次对样品羟基振动的影响 | 第46-47页 |
·TS-1样品羟基振动谱图的差异性 | 第47-61页 |
·不同晶化时间TS-1样品的骨架结构和羟基振动红外光谱 | 第47-51页 |
·相同合成条件下不同硅钛比对TS-1样品羟基的影响 | 第51-52页 |
·碳酸铵加入量对经典法TS-1羟基的影响 | 第52-54页 |
·碳酸铵加入量对廉价法TS-1羟基的影响 | 第54-55页 |
·合成体系中溶剂对TS-1羟基的影响 | 第55-56页 |
·合成过程中氮气气氛对TS-1羟基的影响 | 第56页 |
·水蒸气钝化和高温焙烧处理对TS-1样品羟基的影响 | 第56-59页 |
·硅钛比大于210时不同铝钠含量对TS-1样品羟基的影响 | 第59-61页 |
·本章小结 | 第61-62页 |
结论 | 第62-63页 |
参考文献 | 第63-74页 |
攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第74-75页 |
致谢 | 第75-76页 |