| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-25页 |
| 1.1 柔性磁电子学 | 第9-13页 |
| 1.1.1 柔性磁电子器件 | 第9-11页 |
| 1.1.2 柔性高频磁电薄膜与器件 | 第11-13页 |
| 1.2 磁性薄膜的磁各向异性 | 第13-18页 |
| 1.2.1 磁性薄膜各向异性的起源与分类 | 第13页 |
| 1.2.2 磁性薄膜各向异性的控制方法 | 第13-16页 |
| 1.2.3 柔性磁性薄膜各向异性的控制的研究现状 | 第16-18页 |
| 1.3 磁致伸缩材料与薄膜 | 第18-21页 |
| 1.3.1 磁致伸缩效应及其应用 | 第18-19页 |
| 1.3.2 磁致伸缩材料的发展 | 第19页 |
| 1.3.3 应力对磁致伸缩薄膜磁电性质的调控 | 第19-21页 |
| 1.4 高频磁性的理论及表征方法 | 第21-23页 |
| 1.5 本论文的意义及主要研究内容 | 第23-25页 |
| 1.5.1 选题意义 | 第23页 |
| 1.5.2 主要内容 | 第23-25页 |
| 第2章 实验方法 | 第25-31页 |
| 2.1 磁控溅射法制备磁性薄膜 | 第25-26页 |
| 2.2 表面形貌表征 | 第26-27页 |
| 2.3 静态磁性的测量 | 第27-29页 |
| 2.3.1 振动样品磁强计 | 第27-28页 |
| 2.3.2 磁光克尔效应测试系统 | 第28-29页 |
| 2.4 动态磁性表征 | 第29-31页 |
| 第3章 应力调控柔性Fe_(81)Ga_(19)薄膜的静态和高频磁性能 | 第31-40页 |
| 3.1 引言 | 第31-32页 |
| 3.2 基于柔性衬底的Fe_(81)Ga_(19)薄膜的制备 | 第32-33页 |
| 3.3 应变对Fe_(81)Ga_(19)薄膜磁各向异性的调控 | 第33-35页 |
| 3.4 应变对Fe_(81)Ga_(19)薄膜高频磁性的调控 | 第35-39页 |
| 3.5 本章小结 | 第39-40页 |
| 第4章 纳米褶皱图案化Fe_(81)Ga_(19)薄膜的研究 | 第40-49页 |
| 4.1 引言 | 第40-41页 |
| 4.2 具有褶皱纳米结构的Fe_(81)Ga_(19)薄膜的制备及形貌表征 | 第41-43页 |
| 4.3 不同制备方法对纳米结构Fe_(81)Ga_(19)薄膜磁各向异性的影响 | 第43-47页 |
| 4.4 本章小结 | 第47-49页 |
| 第5章 不同厚度的Fe_(81)Ga_(19)薄膜磁性的应力调控研究 | 第49-56页 |
| 5.1 引言 | 第49页 |
| 5.2 不同厚度Fe_(81)Ga_(19)薄膜的制备 | 第49-50页 |
| 5.3 应变对Fe_(81)Ga_(19)薄膜磁性的调控 | 第50-51页 |
| 5.4 厚度对Fe_(81)Ga_(19)薄膜磁性的影响 | 第51-55页 |
| 5.5 本章小结 | 第55-56页 |
| 第6章 总结与展望 | 第56-58页 |
| 6.1 本论文工作总结 | 第56-57页 |
| 6.2 展望 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
| 个人简历、在学期间发表的学术论文 | 第65页 |
