| 摘要 | 第3-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-20页 |
| 1.1 等离子体概述 | 第9页 |
| 1.2 大气压等离子体射流 | 第9-12页 |
| 1.3 介质阻挡放电 | 第12-16页 |
| 1.3.1 介质阻挡放电方式简介 | 第12-13页 |
| 1.3.2 大气压辉光、丝状放电 | 第13-16页 |
| 1.4 大气压等离子体诊断 | 第16页 |
| 1.5 大气压等离子体化学气相制备法 | 第16-17页 |
| 1.6 粒子粒径分布的测定 | 第17-18页 |
| 1.6.1 平均粒径 | 第17-18页 |
| 1.6.2 动态激光散射法测定粒径的基本原理 | 第18页 |
| 1.7 本文的研究目的及创新点 | 第18-20页 |
| 1.7.1 研究目的 | 第18-19页 |
| 1.7.2 创新点 | 第19-20页 |
| 第2章 大气压氦气介质阻挡放电等离子体射流电子密度的测量 | 第20-25页 |
| 2.1 介质阻挡探针法测量介质层外电子密度原理 | 第20页 |
| 2.2 实验结果与讨论 | 第20-22页 |
| 2.3 各位置处电子密度值随外加电压的影响 | 第22-24页 |
| 2.4 小结 | 第24-25页 |
| 第3章 大气压氦气双辅助接地介质阻挡放电 | 第25-42页 |
| 3.1 引言 | 第25页 |
| 3.2 装置简介 | 第25-26页 |
| 3.3 接地极的作用 | 第26-27页 |
| 3.4 辉光放电模式下等离子体参数测量 | 第27-36页 |
| 3.4.1 辉光放电模式的实验条件 | 第27-29页 |
| 3.4.2 等离子体子弹速度的测量 | 第29-30页 |
| 3.4.3 电子密度的测量 | 第30-31页 |
| 3.4.4 电子密度随电压、频率的变化关系 | 第31-33页 |
| 3.4.5 径向方向离子与中性粒子的碰撞频率 | 第33-34页 |
| 3.4.6 实验结果与讨论 | 第34-35页 |
| 3.4.7 轴向上离子与中性粒子的碰撞频率 | 第35-36页 |
| 3.5 丝状放电模式下等离子体参数测量 | 第36-40页 |
| 3.5.1 丝状放电模式的实验条件 | 第36-39页 |
| 3.5.2 径向方向离子与中性粒子的碰撞频率 | 第39-40页 |
| 3.5.3 实验结果与讨论 | 第40页 |
| 3.6 小结 | 第40-42页 |
| 第4章 大气压等离子体制备二氧化硅 | 第42-48页 |
| 4.1 实验系统简介 | 第42-43页 |
| 4.2 射频容性耦合放电方式制备二氧化硅 | 第43-44页 |
| 4.2.1 粒子的外观形态及XRD分析 | 第43-44页 |
| 4.3 低频高压介质阻挡放电方式制备二氧化硅 | 第44-47页 |
| 4.3.1 液相中粒子的浓度关系 | 第44-45页 |
| 4.3.2 粒子的粒径分布 | 第45-47页 |
| 4.4 小结 | 第47-48页 |
| 第5章 总结及进一步工作建议 | 第48-49页 |
| 5.1 总结 | 第48页 |
| 5.2 进一步工作建议 | 第48-49页 |
| 参考文献 | 第49-54页 |
| 致谢 | 第54-55页 |
| 攻读硕士学位期间的研究成果 | 第55页 |