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基于虚拟源原理的放射性体源无源效率刻度技术研究

摘要第3-4页
abstract第4-5页
第1章 引言第9-18页
    1.1 放射性体源刻度问题的产生第10-11页
        1.1.1 放射性体源无源效率刻度的意义第10-11页
    1.2 无源效率刻度方法及现状第11-15页
        1.2.1 基于蒙卡模拟计算的放射性体源无源效率刻度第11-13页
        1.2.2 无源效率刻度软件第13页
        1.2.3 实验与软件相结合的效率刻度第13-14页
        1.2.4 虚拟点探测器刻度方法第14-15页
    1.3 基于虚拟源原理的放射性体源无源效率刻度技术的提出第15-16页
    1.4 论文主要研究内容第16-17页
    1.5 本章小结第17-18页
第2章 基于虚拟源原理的无源效率刻度方法理论基础第18-31页
    2.1 蒙卡计算原理第18页
    2.2 虚拟源的数学表达第18-30页
        2.2.1 虚拟源原理第18-20页
        2.2.2 虚拟源原理实验刻度例证第20-25页
        2.2.3 虚拟面源的数学表达第25-29页
        2.2.4 虚拟点源的数学表达第29页
        2.2.5 非均匀分布源效率的数学表达第29-30页
    2.3 本章小结第30-31页
第3章 基于虚拟面源的放射性体源无源效率刻度第31-47页
    3.1 面源分层模拟刻度体源效率第31-35页
        3.1.1 面源分层实验第31-32页
        3.1.2 面源分层模拟计算第32-35页
    3.2 虚拟面源的积分中值表达第35-38页
        3.2.1 Labsocs模拟实验第35-36页
        3.2.2 计算结果分析与讨论第36-38页
    3.3 面源效率转移刻度气体源效率第38-43页
        3.3.1 133Ba面源分层模拟实验第38-40页
        3.3.2 面源效率转移实验第40-43页
    3.4 面源自动模拟刻度气体体源方法及装置第43-46页
    3.5 本章小结第46-47页
第4章 基于虚拟点源的放射性体源无源效率刻度第47-66页
    4.1 点源效率函数刻度方法第47-51页
        4.1.1 基本原理第47-48页
        4.1.2 刻度实验方法第48-51页
        4.1.3 点源刻度实验方法的不确定度分析第51页
    4.2 基于点源效率函数的虚拟点源刻度研究第51-53页
    4.3 用虚拟点源刻度污染区边界的方法研究第53-65页
        4.3.1 基本原理第53-55页
        4.3.2 虚拟点源刻度放射性污染区域的边界第55-59页
        4.3.3 面源半径反演实验第59-65页
    4.4 本章小结第65-66页
第5章 大面积及大体积源的无源效率刻度第66-81页
    5.1 大面积及大体积源的蒙卡模拟第66-72页
        5.1.1 大源的效率区域偏倚抽样第66-69页
        5.1.2 蒙特卡罗点源锥形准直技巧第69-70页
        5.1.3 点源分步模拟体源效率第70-72页
    5.2 模拟实验第72-75页
    5.3 晶体参数的蒙卡表征技术第75-80页
        5.3.1 点源实验表征晶体死层参数的基本原理第75页
        5.3.2 点源实验第75-76页
        5.3.3 晶体参数 γ 射线扫描技术第76-77页
        5.3.4 点源实验表征晶体死层参数第77-79页
        5.3.5 计算结果比较分析第79-80页
    5.4 本章小结第80-81页
第6章 非均匀分布源的HPGe探测效率理论与实验研究第81-95页
    6.1 非均匀分布体源的HPGe探测效率理论与实验研究第81-87页
        6.1.1 理论计算方法第81-83页
        6.1.2 实验模拟计算第83-86页
        6.1.3 应用方法研究第86-87页
    6.2 非均匀分布气体体源的实验刻度第87-88页
    6.3 非均匀分布面源的HPGe探测效率理论与实验研究第88-94页
        6.3.1 理论计算方法第88-90页
        6.3.2 实验模拟计算第90-93页
        6.3.3 应用方法研究第93-94页
    6.4 本章小结第94-95页
第7章 总结与展望第95-99页
    7.1 总结第95-97页
    7.2 展望第97-99页
参考文献第99-108页
致谢第108-110页
个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果第110-112页

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