| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-19页 |
| 1.1 课题背景 | 第9-10页 |
| 1.2 透明导电氧化物薄膜简介及分类 | 第10-13页 |
| 1.2.1 ZnO基薄膜 | 第10-12页 |
| 1.2.2 SnO2基薄膜 | 第12页 |
| 1.2.3 In2O3基薄膜 | 第12-13页 |
| 1.3 透明导电氧化物薄膜的制备方法 | 第13-16页 |
| 1.3.1 喷雾热分解法 | 第13-14页 |
| 1.3.2 溶胶凝胶法 | 第14-15页 |
| 1.3.3 化学气相沉积法 | 第15页 |
| 1.3.4 磁控溅射法 | 第15-16页 |
| 1.4 透明导电氧化物薄膜的应用 | 第16页 |
| 1.5 课题目的及意义 | 第16-18页 |
| 1.6 本文的主要研究内容 | 第18-19页 |
| 第2章 实验过程及方法 | 第19-29页 |
| 2.1 超声喷雾热分解制备AZO薄膜成膜机理 | 第19页 |
| 2.2 实验试剂与仪器 | 第19-20页 |
| 2.3 铝离子掺杂浓度的确定 | 第20-21页 |
| 2.4 喷雾热分解法制备AZO薄膜 | 第21-22页 |
| 2.4.1 前驱物的配置及基片清洗 | 第21-22页 |
| 2.4.2 AZO/FTO双层膜的制备 | 第22页 |
| 2.5 AZO/FTO双层膜的抗还原性研究 | 第22-23页 |
| 2.6 性能及表征方法 | 第23-28页 |
| 2.6.1 透射比分析 | 第23页 |
| 2.6.2 雾度分析 | 第23-24页 |
| 2.6.3 薄膜的方块电阻测试 | 第24-25页 |
| 2.6.4 场发射扫描电镜分析 | 第25-26页 |
| 2.6.5 原子力显微镜分析 | 第26页 |
| 2.6.6 X射线衍射分析 | 第26-27页 |
| 2.6.7 辉光放电光谱仪分析 | 第27-28页 |
| 2.7 本章小结 | 第28-29页 |
| 第3章 结果与讨论 | 第29-63页 |
| 3.1 等离子氢处理对FTO薄膜的影响 | 第29-31页 |
| 3.2 前驱物浓度对双层膜光电性能的影响 | 第31-32页 |
| 3.3 不同基板温度制备AZO/FTO双层膜 | 第32-48页 |
| 3.3.1 不同基板温度制备AZO/FTO双层膜光电性能 | 第32-38页 |
| 3.3.2 不同基板温度制备AZO/FTO双层膜微观形貌 | 第38-42页 |
| 3.3.3 不同基板温度制备AZO/FTO双层膜XRD分析 | 第42-44页 |
| 3.3.4 不同基板温度制备AZO/FTO双层膜抗还原性分析 | 第44-48页 |
| 3.4 不同喷涂时间制备AZO/FTO双层膜 | 第48-59页 |
| 3.4.1 不同喷涂时间制备AZO/FTO双层膜光电性能 | 第48-52页 |
| 3.4.2 不同喷涂时间制备AZO/FTO双层膜微观形貌 | 第52-55页 |
| 3.4.3 不同喷涂时间制备AZO/FTO双层膜抗还原性分析 | 第55-59页 |
| 3.5 AZO/FTO双层膜GD-OES分析 | 第59-61页 |
| 3.5.1 等离子氢处理前AZO/FTO双层膜GD-OES分析 | 第59-60页 |
| 3.5.2 等离子氢处理前后AZO/FTO双层膜GD-OES分析 | 第60-61页 |
| 3.6 本章小结 | 第61-63页 |
| 结论 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-69页 |
| 攻读硕士学位期间承担的科研任务与主要成果 | 第69-70页 |
| 致谢 | 第70页 |
