| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 1 绪论 | 第10-18页 |
| 1.1 纳米多层膜研究现状 | 第10-14页 |
| 1.1.1 纳米多层膜的分类 | 第10页 |
| 1.1.2 纳米多层膜机械的性能 | 第10-11页 |
| 1.1.2.1 超硬性 | 第11页 |
| 1.1.2.2 热稳定性 | 第11页 |
| 1.1.2.3 摩擦磨损性能 | 第11页 |
| 1.1.3 纳米多层膜的制备方法 | 第11-14页 |
| 1.1.3.1 磁控溅射技术及其发展现状 | 第12-13页 |
| 1.1.3.2 化学气相沉积 | 第13-14页 |
| 1.1.3.3 其他沉积方法 | 第14页 |
| 1.1.4 多层膜的表征方法 | 第14页 |
| 1.2 课题选题意义 | 第14-15页 |
| 1.3 课题研究概括 | 第15-18页 |
| 1.3.1 研究内容 | 第15页 |
| 1.3.2 研究目标 | 第15-16页 |
| 1.3.3 技术路线 | 第16-18页 |
| 2 试验材料与方法 | 第18-24页 |
| 2.1 试验仪器与试验材料 | 第18页 |
| 2.2 薄膜的制备 | 第18-19页 |
| 2.2.1 基体材料的预处理 | 第18-19页 |
| 2.2.2 薄膜的制备工艺流程 | 第19页 |
| 2.3 薄膜的结构与性能表征 | 第19-24页 |
| 2.3.1 XRD检测 | 第19-20页 |
| 2.3.2 SEM检测 | 第20页 |
| 2.3.3 膜基结合力测试 | 第20-21页 |
| 2.3.4 薄膜硬度测试 | 第21页 |
| 2.3.5 薄膜耐高温、耐腐蚀性测试 | 第21页 |
| 2.3.6 薄膜耐磨性测试 | 第21-24页 |
| 3 TiN薄膜制备工艺研究 | 第24-34页 |
| 3.1 TiN薄膜的制备工艺 | 第24-25页 |
| 3.2 硬度结果与讨论分析 | 第25-28页 |
| 3.3 结合力结果与讨论分析 | 第28-32页 |
| 3.4 小结 | 第32-34页 |
| 4 TiN/AlN多层膜制备工艺的探究 | 第34-42页 |
| 4.1 TiN/AlN多层膜的制备 | 第34-35页 |
| 4.2 氮流量对TiN/AlN多层膜性能的影响 | 第35-37页 |
| 4.2.1 多层膜制备参数 | 第35页 |
| 4.2.2 硬度结果与讨论分析 | 第35-36页 |
| 4.2.3 表面形貌分析 | 第36-37页 |
| 4.3 基体偏压对TiN/AlN多层膜性能的影响 | 第37-40页 |
| 4.3.1 硬度结果与讨论分析 | 第37-39页 |
| 4.3.2 表面形貌分析 | 第39-40页 |
| 4.4 本章小结 | 第40-42页 |
| 5 调制周期对TiN/AlN多层膜结构及性能的影响 | 第42-56页 |
| 5.1 不同调制周期TiN/AlN多层膜制备工艺 | 第42-43页 |
| 5.2 调制周期对TiN/AlN多层膜硬度及结构影响 | 第43-45页 |
| 5.3 调制周期对TiN/AlN多层膜其他性能影响 | 第45-53页 |
| 5.3.1 耐磨性结果与讨论分析 | 第45-51页 |
| 5.3.2 耐高温氧化性结果与讨论分析 | 第51-52页 |
| 5.3.3 耐腐蚀性结果与讨论分析 | 第52-53页 |
| 5.4 本章小结 | 第53-56页 |
| 6 调制比对TiN/AlN多层膜结构及性能的影响 | 第56-68页 |
| 6.1 不同调制比TiN/AlN多层膜设计 | 第56页 |
| 6.2 调制比对TiN/AlN多层膜硬度及结构影响 | 第56-58页 |
| 6.3 调制比对TiN/AlN纳米多层膜其他性能的影响 | 第58-65页 |
| 6.3.1 耐磨性结果及讨论分析 | 第58-63页 |
| 6.3.2 耐高温氧化性结果与讨论分析 | 第63-64页 |
| 6.3.3 耐腐蚀性结果与讨论分析 | 第64-65页 |
| 6.4 本章小结 | 第65-68页 |
| 7 总结 | 第68-70页 |
| 致谢 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-75页 |
| 个人简历、在学期间发表的学术论文及取得的研究成果 | 第75页 |
