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低维拓扑系统中自旋陈泵浦的研究

摘要第4-6页
Abstract第6-8页
1 绪论第14-42页
    1.1 拓扑绝缘体简介第14-30页
        1.1.1 整数量子霍尔效应及陈数第15-23页
        1.1.2 量子自旋霍尔效应及其拓扑指标——Z_2指标或自旋陈数第23-30页
    1.2 绝热量子泵浦的概念及散射理论第30-33页
        1.2.1 绝热量子泵浦第30页
        1.2.2 散射理论第30-33页
    1.3 瓦尼尔函数中心第33-42页
        1.3.1 瓦尼尔中心的定义及其收敛判据第34-36页
        1.3.2 拓扑绝缘体中的瓦尼尔中心第36-42页
2 一维电子模型中的自旋陈泵浦第42-66页
    2.1 研究背景第42-45页
    2.2 理论模型第45-53页
        2.2.1 模型哈密顿量第45页
        2.2.2 系统模型的能谱结构第45-50页
        2.2.3 系统的低能激发哈密顿量第50-53页
    2.3 系统的自旋极化瓦尼尔函数第53-56页
    2.4 利用散射矩阵理论计算系统的自旋泵浦第56-64页
        2.4.1 一维狄拉克方程中δ势的处理方法第56-58页
        2.4.2 系统的一维散射第58-60页
        2.4.3 电极哈密顿量的本征波函数第60-61页
        2.4.4 散射系数第61-62页
        2.4.5 量子化的自旋泵浦第62-64页
    2.5 实现自旋陈数的实验观察第64-66页
3 总结与展望第66-70页
    3.1 总结第66-68页
    3.2 展望第68-70页
致谢第70-72页
参考文献第72-80页
简历与科研成果第80-81页

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