| 作者简历 | 第7-10页 |
| 摘要 | 第10-14页 |
| ABSTRACT | 第14-19页 |
| 第一章 绪论 | 第24-61页 |
| 1.1 课题背景及意义 | 第24-25页 |
| 1.2 半导体化合物研究进展 | 第25-31页 |
| 1.2.1 半导体化合物的定义及分类 | 第25-26页 |
| 1.2.2 半导体材料发展简史 | 第26-28页 |
| 1.2.3 半导体材料的特点及应用 | 第28-31页 |
| 1.3 纳米CuO概述 | 第31-59页 |
| 1.3.1 CuO的基本性质 | 第32-34页 |
| 1.3.2 纳米CuO的制备方法 | 第34-37页 |
| 1.3.3 CuO纳米结构的生长机制 | 第37-43页 |
| 1.3.4 纳米CuO的应用 | 第43-59页 |
| 1.4 本论文的主要内容及创新点 | 第59-61页 |
| 第二章 实验部分 | 第61-67页 |
| 2.1 引言 | 第61页 |
| 2.2 实验试剂及实验仪器 | 第61-63页 |
| 2.2.1 实验试剂 | 第61-62页 |
| 2.2.2 实验仪器 | 第62-63页 |
| 2.3 样品表征手段及测试条件 | 第63-67页 |
| 2.3.1 X射线衍射仪分析 | 第63页 |
| 2.3.2 场发射扫描电镜分析 | 第63-64页 |
| 2.3.3 透射电镜分析 | 第64页 |
| 2.3.4 原子力显微镜分析 | 第64页 |
| 2.3.5 金相显微镜分析 | 第64页 |
| 2.3.6 光致发光性能测试 | 第64-65页 |
| 2.3.7 紫外-可见吸收光谱表征 | 第65页 |
| 2.3.8 光催化性能测试 | 第65-67页 |
| 第三章 水热工艺制备多维CuO纳米结构 | 第67-79页 |
| 3.1 引言 | 第67页 |
| 3.2 实验方案 | 第67-68页 |
| 3.3 水热工艺制备CuO纳米结构的影响因素探讨 | 第68-74页 |
| 3.3.1 醋酸铜浓度 | 第68-70页 |
| 3.3.2 沉淀剂 | 第70-72页 |
| 3.3.3 水热反应温度 | 第72-73页 |
| 3.3.4 水热反应时间 | 第73-74页 |
| 3.4 UV-vis表征 | 第74-75页 |
| 3.5 光催化性能研究 | 第75-76页 |
| 3.6 水热工艺制备CuO纳米片生长机制 | 第76-78页 |
| 3.7 本章小结 | 第78-79页 |
| 第四章 电化学沉积工艺制备星形CuO纳米结构 | 第79-92页 |
| 4.1 引言 | 第79页 |
| 4.2 实验方案 | 第79-81页 |
| 4.3 电化学沉积工艺制备CuO纳米结构的影响因素探讨 | 第81-88页 |
| 4.3.1 电沉积电压 | 第81-84页 |
| 4.3.2 电沉积时间 | 第84-85页 |
| 4.3.3 电沉积温度 | 第85-86页 |
| 4.3.4 反应液搅拌速率 | 第86-87页 |
| 4.3.5 退火温度 | 第87-88页 |
| 4.4 UV-vis表征 | 第88-89页 |
| 4.5 光催化性能研究 | 第89页 |
| 4.6 电化学沉积工艺制备星形CuO纳米结构生长机制 | 第89-91页 |
| 4.7 本章小结 | 第91-92页 |
| 第五章 三电位阳极氧化工艺制备一维CuO纳米线 | 第92-108页 |
| 5.1 引言 | 第92页 |
| 5.2 实验方案 | 第92-95页 |
| 5.3 阳极氧化工艺制备CuO纳米线的影响因素探讨 | 第95-103页 |
| 5.3.1 阳极氧化电压 | 第95-97页 |
| 5.3.2 NaOH浓度 | 第97-98页 |
| 5.3.3 阳极氧化温度 | 第98-99页 |
| 5.3.4 电解液体系 | 第99-100页 |
| 5.3.5 阳极氧化时间 | 第100-103页 |
| 5.4 PL表征 | 第103-104页 |
| 5.5 光催化性能研究 | 第104-105页 |
| 5.6 三电位阳极氧化工艺制备CuO纳米线生长机制 | 第105-106页 |
| 5.7 本章小结 | 第106-108页 |
| 第六章 化学浴沉积工艺制备多维CuO纳米结 | 第108-134页 |
| 6.1 引言 | 第108页 |
| 6.2 实验方案 | 第108-110页 |
| 6.3 化学浴沉积工艺制备CuO纳米结构的影响因素探讨 | 第110-119页 |
| 6.3.1 NaOH浓度 | 第110-115页 |
| 6.3.2 反应时间 | 第115-117页 |
| 6.3.3 热处理 | 第117-119页 |
| 6.4 FESEM和AFM表征 | 第119-121页 |
| 6.5 PL表征 | 第121-122页 |
| 6.6 UV-vis表征 | 第122-125页 |
| 6.7 光催化性能研究 | 第125-128页 |
| 6.8 化学浴沉积工艺制备CuO纳米结构生长机制 | 第128-132页 |
| 6.9 本章小结 | 第132-134页 |
| 第七章 CuO纳米片的金属离子掺杂改性 | 第134-155页 |
| 7.1 引言 | 第134页 |
| 7.2 实验方案 | 第134-136页 |
| 7.3 Zn~(2+)掺杂 | 第136-142页 |
| 7.3.1 XRD分析 | 第136-137页 |
| 7.3.2 FESEM及EDS分析 | 第137-140页 |
| 7.3.3 UV-vis表征 | 第140-141页 |
| 7.3.4 光催化性能研究 | 第141-142页 |
| 7.4 Cd~(2+)掺杂 | 第142-147页 |
| 7.4.1 XRD分析 | 第142-143页 |
| 7.4.2 FESEM和EDS分析 | 第143-145页 |
| 7.4.3 UV-vis表征 | 第145-147页 |
| 7.4.4 光催化性能研究 | 第147页 |
| 7.5 Mn~(2+)掺杂 | 第147-153页 |
| 7.5.1 XRD分析 | 第147-149页 |
| 7.5.2 FESEM和EDS分析 | 第149-151页 |
| 7.5.3 UV-vis表征 | 第151-152页 |
| 7.5.4 光催化性能研究 | 第152-153页 |
| 7.6 本章小结 | 第153-155页 |
| 第八章 两步溶剂工艺制备CuO@TiO_2核壳结构 | 第155-172页 |
| 8.1 引言 | 第155-156页 |
| 8.2 实验方案 | 第156-157页 |
| 8.3 两步溶剂工艺制备CuO@TiO_2核壳结构的影响因素探讨 | 第157-165页 |
| 8.3.1 醋酸铜浓度 | 第157-160页 |
| 8.3.2 钛酸四丁酯浓度 | 第160-163页 |
| 8.3.3 退火温度 | 第163-165页 |
| 8.4 TEM及金相显微镜(MM)表征 | 第165页 |
| 8.5 UV-vis表征 | 第165-168页 |
| 8.6 光催化性能研究 | 第168-169页 |
| 8.7 两步溶剂工艺CuO@TiO_2核壳结构生长机制 | 第169-170页 |
| 8.8 本章小结 | 第170-172页 |
| 第九章 全文总结 | 第172-175页 |
| 9.1 本论文的主要结论 | 第172-174页 |
| 9.2 研究展望 | 第174-175页 |
| 致谢 | 第175-177页 |
| 参考文献 | 第177-198页 |
