| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第12-26页 |
| 1.1 磁各向异性理论 | 第13-17页 |
| 1.1.1 磁晶各向异性 | 第14页 |
| 1.1.2 形状各向异性 | 第14-15页 |
| 1.1.3 磁弹各向异性 | 第15-16页 |
| 1.1.4 界面各向异性 | 第16页 |
| 1.1.5 垂直磁各向异性 | 第16-17页 |
| 1.1.6 软-硬磁交换耦合复合介质薄膜 | 第17页 |
| 1.2 交换耦合现象 | 第17-18页 |
| 1.3 交换偏置效应 | 第18-22页 |
| 1.3.1 交换偏置效应的基本特征 | 第19-20页 |
| 1.3.1.1 交换偏置的磁锻炼效应及热稳定性 | 第19-20页 |
| 1.3.1.2 磁滞回线及磁化强度翻转的不对称性 | 第20页 |
| 1.3.2 理论机制模型 | 第20-22页 |
| 1.3.2.1 Meiklejohn-Bean（M-B）模型 | 第20-21页 |
| 1.3.2.2 Mauri反铁磁畴模型 | 第21页 |
| 1.3.2.3 Malozemoff随机场模型 | 第21-22页 |
| 1.4 RE-TM系列垂直薄膜 | 第22-25页 |
| 1.4.1 RE-TM合金薄膜的研究与进展 | 第22-24页 |
| 1.4.2 [RE-TM]_N多层薄膜的研究与进展 | 第24-25页 |
| 1.5 本论文的主要工作及意义 | 第25-26页 |
| 第二章 实验方法及测量原理 | 第26-33页 |
| 2.1 薄膜样品的制备 | 第26-29页 |
| 2.1.1 磁控溅射仪 | 第26-27页 |
| 2.1.2 薄膜的生长 | 第27-28页 |
| 2.1.3 基底的清洗 | 第28页 |
| 2.1.4 样品制备工艺流程 | 第28-29页 |
| 2.2 薄膜样品的热处理（RTA与CTA） | 第29-30页 |
| 2.3 样品的表征 | 第30-33页 |
| 2.3.1 微结构及成分的表征 | 第30-31页 |
| 2.3.1.1 X射线衍射（XRD） | 第30页 |
| 2.3.1.2 X射线能谱仪（EDS） | 第30页 |
| 2.3.1.3 扫描电子显微镜（SEM） | 第30-31页 |
| 2.3.2 表面形貌及磁畴结构的表征（AFM/MFM） | 第31页 |
| 2.3.3 磁性表征（VSM） | 第31-33页 |
| 第三章 GL/Cu/[Tb/FeCo]_3/Tb/Fe Mn/Cu多层膜的PMA与P-EB效应 | 第33-58页 |
| 3.1 引言 | 第33页 |
| 3.2 实验方法 | 第33-40页 |
| 3.2.1 实验条件 | 第33-34页 |
| 3.2.2 单层FeCo、FeMn合金膜成分及溅射速率的确定 | 第34-40页 |
| 3.2.2.1 FeCo、FeMn合金成分的EDS表征 | 第34-35页 |
| 3.2.2.2 FeCo、FeMn合金薄膜溅射速率的VSM校正 | 第35-38页 |
| 3.2.2.3 FeCo、FeMn合金薄膜晶体结构的XRD表征 | 第38-39页 |
| 3.2.2.4 Glass/Fe_(62)Co_(38)薄膜表面形貌的SEM/AFM表征 | 第39-40页 |
| 3.3 实验结果 | 第40-57页 |
| 3.3.1 Tb间隔层对GL/Cu/[Tb/FeCo]_3/Tb/FeMn/Cu多层膜PMA的影响 | 第40-45页 |
| 3.3.2 Tb间隔层对GL/Cu/FeMn/Tb/[FeCo/Tb]_3/Cu多层膜PMA的影响 | 第45-49页 |
| 3.3.3 磁场热处理对GL/Cu/[Tb/FeCo]_3/Tb/Fe Mn/Cu和GL/Cu/FeMn/Tb/[FeCo/Tb]_3/Cu多层膜P-EB效应的影响 | 第49-57页 |
| 3.3.3.1 GL/Cu/[Tb/FeCo]_3/Tb/FeMn/Cu和GL/Cu/FeMn/Tb/[FeCo/Tb]_3/Cu多层膜的热稳定性 | 第50-55页 |
| 3.3.3.2 GL/Cu/FeMn/Tb/[FeCo/Tb]_3/Cu多层膜的P-EB效应 | 第55-57页 |
| 3.4 小结 | 第57-58页 |
| 第四章 磁控溅射Nd-Co合金薄膜的PMA及相关磁性 | 第58-81页 |
| 4.1 引言 | 第58页 |
| 4.2 实验方法 | 第58-59页 |
| 4.3 实验结果 | 第59-79页 |
| 4.3.1 制备态Nd-Co薄膜的合金成分与微观结构 | 第59-63页 |
| 4.3.1.1 制备态Nd-Co薄膜合金成分的EDS表征 | 第59-62页 |
| 4.3.1.2 制备态Nd-Co薄膜的微观结构 | 第62-63页 |
| 4.3.2 制备态Nd-Co薄膜的磁畴结构与PMA特性 | 第63-67页 |
| 4.3.2.1 制备态Nd-Co薄膜的磁畴结构 | 第63-64页 |
| 4.3.2.2 制备态Nd-Co薄膜的PMA特性 | 第64-67页 |
| 4.3.3 退火工艺对Nd-Co薄膜微结构与磁性的影响 | 第67-79页 |
| 4.3.3.1 合金成分对退火态Nd-Co薄膜结构与磁性的影响 | 第67-72页 |
| 4.3.3.2 退火温度对退火态Nd-Co薄膜结构与磁性的影响 | 第72-76页 |
| 4.3.3.3 CTA与RTA退火工艺的比较 | 第76-79页 |
| 4.4 小结 | 第79-81页 |
| 第五章 磁控溅射NdCo FeB合金薄膜的微结构与磁性 | 第81-95页 |
| 5.1 引言 | 第81页 |
| 5.2 实验方法 | 第81-82页 |
| 5.3 实验结果 | 第82-94页 |
| 5.3.1 NdCo BFe合金薄膜成分的确定 | 第82-83页 |
| 5.3.2 制备态NdCoFeB合金薄膜磁性的VSM表征 | 第83-84页 |
| 5.3.3 退火态NdCoBFe合金薄膜的结构与磁性 | 第84-94页 |
| 5.3.3.1 退火温度对I-NdCo_(2.35)B_(1.62)薄膜结构与磁性的影响 | 第84-87页 |
| 5.3.3.2 退火温度对II-Nd(Fe_(8.95)Co_(91.05))_(2.19)B_(6.57)薄膜结构与磁性的影响 | 第87-89页 |
| 5.3.3.3 退火温度对III-Nd(Fe_(15.68)Co_(84.32))_(2.36)B_(6.19)薄膜结构与磁性的影响 | 第89-92页 |
| 5.3.3.4 退火温度对IV-Nd(Fe_(22.47)Co_(77.53))_(2.00)B_(2.93)薄膜结构与磁性的影响 | 第92-94页 |
| 5.4 小结 | 第94-95页 |
| 第六章 结论 | 第95-97页 |
| 参考文献 | 第97-104页 |
| 在学研究成果 | 第104-105页 |
| 致谢 | 第105页 |
