| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第11-25页 |
| 1.1.离子通道应用分类 | 第11-18页 |
| 1.1.1.pH单响应离子通道 | 第11-13页 |
| 1.1.2.温度单响应离子通道 | 第13-14页 |
| 1.1.3.离子单响应离子通道 | 第14-15页 |
| 1.1.4.分子单响应离子通道 | 第15页 |
| 1.1.5.pH/温度双响应离子通道 | 第15-16页 |
| 1.1.6.pH/光双响应离子通道 | 第16-17页 |
| 1.1.7.pH/分子双响应离子通道 | 第17-18页 |
| 1.2.介孔氧化硅及其改性简介 | 第18-20页 |
| 1.3.介孔氧化硅的应用 | 第20-23页 |
| 1.3.1.介孔氧化硅在催化中的应用 | 第20-21页 |
| 1.3.2.介孔氧化硅在环境保护中的应用 | 第21-22页 |
| 1.3.3.介孔氧化硅在药物缓释中的应用 | 第22-23页 |
| 1.3.4.介孔氧化硅在新材料制备中的应用 | 第23页 |
| 1.4.课题研究意义及研究内容 | 第23-25页 |
| 1.4.1.课题的研究意义 | 第23-24页 |
| 1.4.2.课题研究内容 | 第24-25页 |
| 第二章 pH/温度双响应离子通道构筑及其机理研究 | 第25-46页 |
| 2.1.引言 | 第25-26页 |
| 2.2.实验内容 | 第26-30页 |
| 2.2.1.主要原料 | 第26-27页 |
| 2.2.2.器材设备 | 第27-28页 |
| 2.2.3.杂化介孔材料的制备 | 第28-30页 |
| 2.3.试样的测试与表征 | 第30-32页 |
| 2.3.1.液相色谱-飞行时间质谱分析 | 第30页 |
| 2.3.2.核磁共振法分析 | 第30页 |
| 2.3.3.傅里叶红外谱分析 | 第30页 |
| 2.3.4.热重分析仪 | 第30页 |
| 2.3.5.透射电子显微镜 | 第30-31页 |
| 2.3.6.凝胶渗透色谱 | 第31页 |
| 2.3.7.X射线衍射分析 | 第31页 |
| 2.3.8.氮气脱吸附测试 | 第31页 |
| 2.3.9.电化学性能分析 | 第31-32页 |
| 2.4.结果与讨论 | 第32-45页 |
| 2.4.1.RAFT试剂表征 | 第32-34页 |
| 2.4.1.1.~1HNMR谱图 | 第32-33页 |
| 2.4.1.2.RAFT质谱图 | 第33-34页 |
| 2.4.2.表面修饰介孔二氧化硅的表征 | 第34-41页 |
| 2.4.2.1.FT-IR分析 | 第34-35页 |
| 2.4.2.2.TG分析 | 第35-36页 |
| 2.4.2.3.TEM分析 | 第36-37页 |
| 2.4.2.4.BET分析 | 第37-39页 |
| 2.4.2.5.XRD分析 | 第39-40页 |
| 2.4.2.6.GPC测试分析 | 第40-41页 |
| 2.4.3.PDMAEMA-SBA-15 杂化材料响应性电化学测试分析 | 第41-45页 |
| 2.4.3.1.交流阻抗分析 | 第41-44页 |
| 2.4.3.2.循环伏安分析 | 第44-45页 |
| 2.5.本章小结 | 第45-46页 |
| 第三章 pH/温度/光三响应离子通道构建及其机理研究 | 第46-69页 |
| 3.1.引言 | 第46-47页 |
| 3.2.实验内容 | 第47-50页 |
| 3.2.1.实验原料 | 第47-48页 |
| 3.2.2.器材设备 | 第48-49页 |
| 3.2.3.嵌段聚合物杂化介孔材料制备 | 第49-50页 |
| 3.3.试样的测试与表征 | 第50-52页 |
| 3.3.1.液相色谱-飞行时间质谱分析 | 第50页 |
| 3.3.2.核磁共振法分析 | 第50页 |
| 3.3.3.傅里叶红外谱分析 | 第50页 |
| 3.3.4.紫外-可见-近红外光谱分析 | 第50页 |
| 3.3.5.热重分析仪 | 第50页 |
| 3.3.6.透射电子显微镜 | 第50-51页 |
| 3.3.7.凝胶渗透色谱 | 第51页 |
| 3.3.8.X射线衍射分析 | 第51页 |
| 3.3.9.氮气脱吸附测试 | 第51页 |
| 3.3.10.电化学性能分析 | 第51-52页 |
| 3.4.结果与讨论 | 第52-68页 |
| 3.4.1.丙烯酰胺基偶氮苯(AAAB)的表征 | 第52-55页 |
| 3.4.1.1.FTIR分析 | 第52-53页 |
| 3.4.1.2.~1HNMR谱图 | 第53页 |
| 3.4.1.3.AAAB的紫外-可见光响应 | 第53-55页 |
| 3.4.2.表面修饰介孔二氧化硅的表征 | 第55-62页 |
| 3.4.2.1.FT-IR分析 | 第55-56页 |
| 3.4.2.2.TG分析 | 第56-57页 |
| 3.4.2.3.TEM分析 | 第57-58页 |
| 3.4.2.4.BET分析 | 第58-60页 |
| 3.4.2.5.介孔壁嵌段聚合物的~1HNMR及GPC分析 | 第60-62页 |
| 3.4.3.嵌段聚合物/SBA-15 杂化材料响应性电化学测试分析 | 第62-68页 |
| 3.4.3.1.交流阻抗分析 | 第62-65页 |
| 3.4.3.2.嵌段聚合物/SBA-15杂化材料CV分析 | 第65-68页 |
| 3.5.本章小结 | 第68-69页 |
| 第四章 结论、创新点及展望 | 第69-71页 |
| 4.1.结论 | 第69页 |
| 4.2.创新点 | 第69-70页 |
| 4.3.展望 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-79页 |
| 致谢 | 第79-80页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文与取得的其它研究成果 | 第80页 |
