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稀土金属Gd/半导体复合材料的电子结构和磁性的第一性原理计算

中文摘要第4-5页
ABSTRACT第5-6页
第一章 综述第9-31页
    1.1 引言第9-10页
    1.2 GdN的研究进展第10-22页
        1.2.1 GdN基态的电子结构第10-12页
        1.2.2 应力对GdN电子结构的影响第12-15页
        1.2.3 GdN磁性质的研究进展第15-22页
    1.3 ZnO的研究进展第22-24页
        1.3.1 ZnO基态的电子结构第22-23页
        1.3.2 稀土掺杂ZnO的研究进展第23-24页
    1.4 单层MoS_2的研究进展第24-29页
        1.4.1 单层MoS_2基态的电子结构第24-25页
        1.4.2 应力对单层MoS_2电子结构的影响第25-26页
        1.4.3 掺杂单层MoS_2的研究进展第26-28页
        1.4.4 金属与单层MoS_2界面的研究进展第28-29页
    1.5 本论文工作第29-31页
第二章 计算理论基础第31-42页
    2.1 波恩-奥本海默(BO)近似第31-32页
    2.2 单电子近似第32-33页
    2.3 平均场近似与Hatree-Fock自洽场第33-35页
    2.4 密度泛函理论基础第35-38页
        2.4.1 Hohenberg-Kohn定理第35-36页
        2.4.2 Kohn-Sham方程:有效单体理论第36-37页
        2.4.3 交换关联能泛函第37-38页
    2.5 计算程序VASP简介第38-42页
        2.5.1 VASP的主要功能和特点第38-39页
        2.5.2 赝势第39-40页
        2.5.3 VASP的工作流程第40页
        2.5.4 VASP的主要输入、输出文件第40-42页
第三章 GdN_(1-x)M_x和Zn_(1-x)RE_xO的电子结构和磁性第42-63页
    3.1 不同浓度阴离子掺杂GdN的电子结构和磁性第42-53页
        3.1.1 计算模型和方法第42-43页
        3.1.2 GdN的电子结构第43-45页
        3.1.3 电子掺杂对GdN电子结构的影响第45-49页
        3.1.4 空穴掺杂对GdN电子结构的影响第49-51页
        3.1.5 同主族元素P和As掺杂对GdN电子结构的影响第51-53页
    3.2 稀土金属掺ZnO的电子结构第53-61页
        3.2.1 计算模型和方法第53-55页
        3.2.2 ZnO的电子结构第55页
        3.2.3 RE掺杂ZnO的电子结构和磁性第55-61页
    3.3 本章小结第61-63页
第四章 Gd/MoS_2复合结构的电子结构和磁性第63-82页
    4.1 Gd掺单层MoS_2的电子结构第63-71页
        4.1.1 计算模型和方法第64-65页
        4.1.2 单个Gd掺杂单层MoS_2的电子结构和磁性第65-68页
        4.1.3 Gd掺杂单层MoS_2的磁性第68-71页
    4.2 Gd/MoS_2界面的电子结构和磁性第71-80页
        4.2.1 计算模型和方法第72页
        4.2.2 Gd和单层MoS_2的电子结构第72-73页
        4.2.3 Gd/MoS_2界面对单层MoS_2的影响第73-78页
        4.2.4 Gd/MoS_2界面对Gd的影响第78-80页
    4.3 本章小结第80-82页
第五章 总结第82-84页
参考文献第84-93页
攻读硕士学位期间完成的学术论文第93-94页
致谢第94-95页

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