| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 第1章 绪论 | 第8-18页 |
| 1.1 引言 | 第8-10页 |
| 1.2 BST薄膜简介 | 第10-11页 |
| 1.2.1 钛酸锶钡的基本特性 | 第10-11页 |
| 1.2.2 钛酸锶钡薄膜的研究现状 | 第11页 |
| 1.3 BST薄膜的制备方法 | 第11-15页 |
| 1.3.1 磁控溅射方法 | 第12页 |
| 1.3.2 脉冲激光沉积法 | 第12-13页 |
| 1.3.3 溶胶-凝胶法 | 第13-14页 |
| 1.3.4 金属有机化学气相沉积法 | 第14-15页 |
| 1.3.5 分子束外延法 | 第15页 |
| 1.4 论文的研究背景和内容 | 第15-18页 |
| 第2章 实验方法 | 第18-28页 |
| 2.1 BST薄膜的制备方法 | 第18-21页 |
| 2.1.1 射频磁控溅射简介 | 第18-19页 |
| 2.1.2 实验使用的射频磁控溅射系统简介 | 第19-20页 |
| 2.1.3 BST薄膜制备流程 | 第20-21页 |
| 2.2 分析方法 | 第21-28页 |
| 2.2.1 X射线衍射仪 | 第21-22页 |
| 2.2.2 扫描探针显微镜 | 第22-24页 |
| 2.2.3 厚度检测方法 | 第24-25页 |
| 2.2.4 介电性能测试方法 | 第25页 |
| 2.2.5 铁电性能测试方法 | 第25-28页 |
| 第3章 溅射气氛对BST薄膜生长与性能作用的研究 | 第28-42页 |
| 3.1 通入氧气对BST薄膜生长与性能的影响 | 第28-32页 |
| 3.1.1 薄膜的制备条件 | 第28页 |
| 3.1.2 XRD分析 | 第28-29页 |
| 3.1.3 AFM分析 | 第29-30页 |
| 3.1.4 介电性能 | 第30-32页 |
| 3.2 溅射气体组成与溅射总气压对薄膜生长与性能的影响 | 第32-40页 |
| 3.2.1 薄膜样品的制备条件 | 第32页 |
| 3.2.2 XRD分析 | 第32-34页 |
| 3.2.3 AFM分析 | 第34-36页 |
| 3.2.4 薄膜厚度分析 | 第36-37页 |
| 3.2.5 介电性能 | 第37-40页 |
| 3.3 本章小结 | 第40-42页 |
| 第4章 BST薄膜的铁电性能研究 | 第42-48页 |
| 4.1 BST薄膜的铁电性能 | 第42-47页 |
| 4.1.1 BST薄膜的高频与低频测试 | 第42-43页 |
| 4.1.2 驱动电压对薄膜铁电畴分布的影响 | 第43-44页 |
| 4.1.3 垂直与水平方向的铁电畴测试 | 第44-46页 |
| 4.1.4 BST薄膜的Ramp测试 | 第46-47页 |
| 4.2 本章小节 | 第47-48页 |
| 第5章 总结与展望 | 第48-50页 |
| 5.1 实验总结 | 第48页 |
| 5.2 工作展望 | 第48-50页 |
| 参考文献 | 第50-56页 |
| 致谢 | 第56-58页 |
| 攻读硕士学位期间科研成果 | 第58页 |