| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-12页 |
| 1 文献综述 | 第12-23页 |
| ·引言 | 第12页 |
| ·几种重要高纯金属杂质分析技术 | 第12-14页 |
| ·原子吸收光谱法 | 第12-13页 |
| ·电感耦合等离子体原子发射光谱法 | 第13页 |
| ·电感耦合等离子体质谱法 | 第13页 |
| ·火花源质谱法与二次离子质谱法 | 第13-14页 |
| ·辉光放电质谱法 | 第14页 |
| ·激光剥蚀电感耦合等离子体质谱法 | 第14页 |
| ·LA-ICP-MS概述 | 第14-21页 |
| ·ICP-MS原理 | 第15-16页 |
| ·激光剥蚀技术原理 | 第16-17页 |
| ·LA-ICP-MS联用技术优势 | 第17-18页 |
| ·分馏效应 | 第18-21页 |
| ·优化仪器参数 | 第21页 |
| ·研究现状 | 第21-23页 |
| ·纯钛的分析测试研究现状 | 第21页 |
| ·纯钨的分析测试研究现状 | 第21-23页 |
| 2 仪器与试剂 | 第23-25页 |
| ·仪器设备 | 第23页 |
| ·样品与试剂 | 第23-25页 |
| ·样品 | 第23页 |
| ·主要试剂 | 第23页 |
| ·标准溶液 | 第23-25页 |
| 3 LA-ICP-MS法测定纯钛和纯钨中痕量杂质元素 | 第25-43页 |
| ·待测元素同位素选择 | 第25-26页 |
| ·激光剥蚀参数优化 | 第26-37页 |
| ·纯钛激光参数优化 | 第26-32页 |
| ·纯钨激光参数优化 | 第32-37页 |
| ·LA-ICP-MS法检出限 | 第37-39页 |
| ·LA-ICP-MS测定结果 | 第39-42页 |
| ·纯钛LA-ICP-MS法测定结果 | 第39-40页 |
| ·纯钨LA-ICP-MS法测定结果 | 第40-42页 |
| ·LA-ICP-MS法测定小结 | 第42-43页 |
| 4 ICP-MS测定纯钛和纯钨中痕量杂质元素 | 第43-60页 |
| ·ICP-MS实验方法 | 第43-44页 |
| ·纯钛的ICP-MS实验步骤 | 第43-44页 |
| ·纯钨的ICP-MS实验步骤 | 第44页 |
| ·ICP-MS工作参数优化 | 第44-45页 |
| ·ICP-MS同位素选择 | 第45-47页 |
| ·ICP-MS测定结果 | 第47-59页 |
| ·纯钛ICP-MS法测定结果 | 第47-53页 |
| ·纯钨ICP-MS法测定结果 | 第53-59页 |
| ·ICP-MS测定小结 | 第59-60页 |
| 5 GD-MS法测定纯钛和纯钨中痕量杂质元素 | 第60-68页 |
| ·纯钛GD-MS工作参数优化 | 第60-62页 |
| ·放电电流 | 第60页 |
| ·放电气体流量 | 第60-62页 |
| ·分析元素同位素和仪器分辨率的选择 | 第62-63页 |
| ·GD-MS测定结果 | 第63-67页 |
| ·纯钛GD-MS法测定结果 | 第63-65页 |
| ·纯钨GD-MS法测定结果 | 第65-67页 |
| ·GD-MS测定小结 | 第67-68页 |
| 6 结果与讨论 | 第68-78页 |
| ·LA-ICP-MS法测定结果准确度检验 | 第68-73页 |
| ·纯钛测定结果的准确度检验 | 第69-71页 |
| ·纯钨测定结果的准确度检验 | 第71-73页 |
| ·三种方法精密度对比 | 第73-74页 |
| ·三种方法检出限对比 | 第74-77页 |
| ·小结 | 第77-78页 |
| 结论 | 第78-80页 |
| 参考文献 | 第80-84页 |
| 攻读硕士学位期间取得的学术成果 | 第84-85页 |
| 致谢 | 第85页 |