| 摘要 | 第1-8页 |
| Abstract | 第8-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-25页 |
| ·研究背景 | 第10页 |
| ·光催化及光电催化的基本原理 | 第10-12页 |
| ·光催化的基本原理 | 第10-11页 |
| ·光电催化的基本原理 | 第11-12页 |
| ·半导体材料概述 | 第12-14页 |
| ·半导体光催化材料的研究现状 | 第12-13页 |
| ·影响半导体光催化材料活性的因素 | 第13-14页 |
| ·BiVO_4光催化材料的研究进展 | 第14-17页 |
| ·BiVO_4光催化纳米材料的基本性质 | 第14-16页 |
| ·BiVO_4光催化纳米材料的研究进展 | 第16-17页 |
| ·BiVO_4基光催化纳米材料的制备方法 | 第17-20页 |
| ·BiVO_4光催化粉末的制备方法 | 第18-19页 |
| ·BiVO_4光电阳极的制备方法 | 第19-20页 |
| ·提高BiVO_4光催化及光电化学性能的途径 | 第20-23页 |
| ·形貌控制 | 第20-21页 |
| ·复合结构 | 第21-22页 |
| ·掺杂 | 第22页 |
| ·负载析氧催化剂 | 第22-23页 |
| ·本论文的选题依据及研究内容 | 第23-25页 |
| 第2章 Bi/BiOCl/BiVO_4三元光催化剂的光催化及光电化学性能 | 第25-34页 |
| ·前言 | 第25页 |
| ·实验部分 | 第25-27页 |
| ·主要实验试剂 | 第25-26页 |
| ·主要仪器设备 | 第26-27页 |
| ·光催化剂的制备 | 第27页 |
| ·光催化及光电化学性能测试 | 第27页 |
| ·结果与讨论 | 第27-33页 |
| ·样品表征结果分析 | 第27-31页 |
| ·光催化降解RhB | 第31页 |
| ·瞬态光电流响应 | 第31-32页 |
| ·光催化机理分析 | 第32-33页 |
| ·本章小结 | 第33-34页 |
| 第3章 孔径可调的多孔BiVO_4薄膜的光电化学性能 | 第34-45页 |
| ·前言 | 第34页 |
| ·实验部分 | 第34-38页 |
| ·主要实验试剂 | 第34-35页 |
| ·主要仪器设备 | 第35-36页 |
| ·半导体光电阳极的制备 | 第36页 |
| ·光电化学性能测试 | 第36-37页 |
| ·光电化学分解水制氢 | 第37页 |
| ·同步光照射光电子能谱（SIXPS）测试 | 第37页 |
| ·态密度（DOS）理论计算 | 第37-38页 |
| ·光学性能测试和现象观测 | 第38页 |
| ·结果与讨论 | 第38-44页 |
| ·样品表征结果分析 | 第38-40页 |
| ·光电化学性能和分解水制氢结果分析 | 第40-41页 |
| ·SIXPS测试和DOS理论计算结果研究 | 第41-42页 |
| ·多孔结构对半导体可见光吸收的作用 | 第42-43页 |
| ·光电化学反应机理探讨 | 第43-44页 |
| ·本章小结 | 第44-45页 |
| 第4章 超薄石墨相氮化碳纳米片修饰多孔BiVO_4光电阳极 | 第45-56页 |
| ·前言 | 第45-46页 |
| ·实验部分 | 第46-50页 |
| ·主要实验试剂 | 第46页 |
| ·主要仪器设备 | 第46-47页 |
| ·超薄g-C_3N_4纳米片的制备 | 第47页 |
| ·BiVO_4/g-C_3N_4-NS光电阳极的制备 | 第47-48页 |
| ·BiVO_4/CoPi和BiVO_4/FeOOH光电阳极的制备 | 第48页 |
| ·光电化学性能测试以及分解水制氢 | 第48-49页 |
| ·同步光照射光电子能谱（SIXPS）测试 | 第49-50页 |
| ·结果与讨论 | 第50-55页 |
| ·样品表征结果分析 | 第50-52页 |
| ·光电化学性能和分解水制氢结果分析 | 第52-54页 |
| ·SIXPS测试结果研究 | 第54页 |
| ·光电化学反应机理探讨 | 第54-55页 |
| ·本章小结 | 第55-56页 |
| 结论 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-72页 |
| 致谢 | 第72-73页 |
| 附录A 攻读学位期间所发表的学术论文目录 | 第73页 |
