等离子体增强平衡磁控溅射制备氮化钛涂层的研究
| 中文摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 1. 绪论 | 第10-19页 |
| ·引言 | 第10页 |
| ·真空溅射镀膜 | 第10-13页 |
| ·溅射镀膜原理 | 第10-11页 |
| ·溅射技术概述 | 第11-12页 |
| ·磁控溅射技术 | 第12-13页 |
| ·氮化铝涂层介绍 | 第13-15页 |
| ·氮化铝涂层的结构 | 第13-14页 |
| ·氮化铝涂层的性能和应用 | 第14-15页 |
| ·氮化钛涂层介绍 | 第15-17页 |
| ·氮化钛涂层的结构和性能 | 第15-16页 |
| ·工艺参数对氮化钛涂层的影响 | 第16-17页 |
| ·氮化钛涂层的应用 | 第17页 |
| ·本课题的研究意义和内容 | 第17-19页 |
| ·本课题的研究意义 | 第17-18页 |
| ·本课题的研究内容 | 第18-19页 |
| 2. 实验方案 | 第19-29页 |
| ·实验研究路线 | 第19-20页 |
| ·实验设备 | 第20-21页 |
| ·实验材料 | 第21-23页 |
| ·氮化铝涂层的制备 | 第21页 |
| ·氮化钛涂层的制备 | 第21-23页 |
| ·涂层的制备工艺流程 | 第23页 |
| ·涂层微观分析 | 第23-25页 |
| ·XRD | 第23-24页 |
| ·SEM | 第24-25页 |
| ·涂层性能分析 | 第25-29页 |
| ·涂层厚度的测量 | 第25-26页 |
| ·显微硬度的测试 | 第26页 |
| ·耐磨性能的测试 | 第26-27页 |
| ·结合强度的测试 | 第27页 |
| ·电阻率的测量 | 第27-29页 |
| 3. 氮化铝涂层制备实验 | 第29-37页 |
| ·实验材料和工艺参数 | 第29-30页 |
| ·结果分析与讨论 | 第30-34页 |
| ·氮气分压对靶材电压的影响 | 第31-32页 |
| ·氮气分压对沉积速率的影响 | 第32-33页 |
| ·氮气分压对化学成分的影响 | 第33-34页 |
| ·氮气分压对电阻率的影响 | 第34页 |
| ·分析讨论 | 第34-36页 |
| ·本章小结 | 第36-37页 |
| 4. 等离子体增强作用对氮化钛涂层的影响 | 第37-48页 |
| ·等离子体增强平衡磁控溅射技术 | 第37页 |
| ·实验方案 | 第37-38页 |
| ·实验结果 | 第38-45页 |
| ·氮化钛涂层的沉积速率 | 第38-40页 |
| ·氮化钛涂层的显微形貌 | 第40-42页 |
| ·氮化钛涂层的化学成分 | 第42-43页 |
| ·氮化钛涂层的物相组成 | 第43-44页 |
| ·氮化钛涂层的显微硬度 | 第44-45页 |
| ·分析讨论 | 第45-46页 |
| ·本章小结 | 第46-48页 |
| 5. 氮气流量对氮化钛涂层的影响 | 第48-61页 |
| ·实验方案 | 第48-49页 |
| ·实验结果 | 第49-59页 |
| ·氮化钛涂层的沉积速率 | 第49-50页 |
| ·氮化钛涂层的显微形貌 | 第50-52页 |
| ·氮化钛涂层的化学成分 | 第52-53页 |
| ·氮化钛涂层的物相组成 | 第53-55页 |
| ·氮化钛涂层的显微硬度 | 第55页 |
| ·氮化钛涂层的耐磨性能 | 第55-58页 |
| ·氮化钛涂层的结合强度 | 第58-59页 |
| ·分析讨论 | 第59页 |
| ·本章小结 | 第59-61页 |
| 6. 结论 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |
| 作者简介 | 第66-67页 |
