| 创新点摘要 | 第1-6页 |
| 摘要 | 第6-8页 |
| Abstract | 第8-13页 |
| 1 引言 | 第13-32页 |
| ·研究背景和意义 | 第13-15页 |
| ·加氢脱硫催化剂的研究现状 | 第15-30页 |
| ·硫化钼系加氢脱硫催化剂的结构 | 第15-20页 |
| ·加氢脱硫活性位 | 第20-24页 |
| ·H_2的解离和S空位的生成 | 第24-27页 |
| ·噻吩和烯烃在加氢脱硫催化剂上的反应 | 第27-30页 |
| ·研究思路 | 第30-32页 |
| 2 MoS_2催化体系模型的建立 | 第32-40页 |
| ·MoS_2活性相模型的初建 | 第32-33页 |
| ·S空位的形成 | 第33-38页 |
| ·S空位形成热力学 | 第33-35页 |
| ·S空位形成动力学 | 第35-36页 |
| ·S空位的性质 | 第36-38页 |
| ·S空位形成的小结 | 第38页 |
| ·活性中心的确定 | 第38-39页 |
| ·本章小结 | 第39-40页 |
| 3 反应分子在MoS_2活性相上的吸附 | 第40-46页 |
| ·噻吩在3种活性中心上的吸附 | 第40-42页 |
| ·噻吩加氢过程中间产物的吸附 | 第42-43页 |
| ·1-己烯在MoS2催化剂上的吸附 | 第43-44页 |
| ·本章小结 | 第44-46页 |
| 4 H_2在MoS_2活性相上的解离 | 第46-56页 |
| ·H_2在3种活性中心上的解离 | 第46-48页 |
| ·活性中心周围活泼H的性质 | 第48-49页 |
| ·H_2在MoS_2上解离的机理分析 | 第49-55页 |
| ·分子簇模型的建立 | 第49-50页 |
| ·H_2在S-S上均裂过程分析 | 第50-52页 |
| ·H_2在Mo-S上异裂过程分析 | 第52-54页 |
| ·H_2解离机理小结 | 第54-55页 |
| ·本章小结 | 第55-56页 |
| 5 MoS_2活性相上的加氢脱硫反应 | 第56-71页 |
| ·噻吩在MoS_2活性相上的加氢脱硫反应 | 第56-68页 |
| ·噻吩加氢脱硫反应路径设计 | 第56-57页 |
| ·噻吩在Mo边的加氢脱硫反应 | 第57-59页 |
| ·噻吩在角位的加氢脱硫反应 | 第59-60页 |
| ·噻吩在S空位处的加氢脱硫反应 | 第60-61页 |
| ·噻吩在MoS_2活性相上反应的小结 | 第61-63页 |
| ·噻吩在MoS_2活性相上的反应规律分析 | 第63-68页 |
| ·1-己烯在MoS_2催化剂上的加氢反应 | 第68-69页 |
| ·本章小结 | 第69-71页 |
| 6 CoMoS催化剂中Co的作用 | 第71-94页 |
| ·Co的取代位置 | 第71-75页 |
| ·引入Co之后S边的研究 | 第75-83页 |
| ·S边引入Co之后的活性位状态 | 第75-78页 |
| ·反应分子在CoMoS-S活性位上的吸附 | 第78-79页 |
| ·H_2在CoMoS-S活性位上的解离 | 第79-80页 |
| ·CoMoS-S活性位上的化学反应 | 第80-83页 |
| ·引入Co之后S边的研究小结 | 第83页 |
| ·引入Co之后角位的研究 | 第83-93页 |
| ·角位引入Co之后的活性位状态 | 第83-86页 |
| ·反应分子在CoMoS-C活性位上的吸附 | 第86-87页 |
| ·H_2在CoMoS-C活性位上的解离 | 第87-89页 |
| ·CoMoS-C活性位上的化学反应 | 第89-92页 |
| ·引入Co之后角位的研究小结 | 第92-93页 |
| ·本章小结 | 第93-94页 |
| 7 实验部分 | 第94-97页 |
| ·催化剂制备 | 第94页 |
| ·微反评价 | 第94页 |
| ·评价结果 | 第94-97页 |
| 8 结论 | 第97-99页 |
| 致谢 | 第99-100页 |
| 参考文献 | 第100-108页 |
| 附录A 噻吩在MoS_2活性相上的吸附 | 第108-110页 |
| 附录B 噻吩加氢中间产物在MoS_2活性相上的吸附 | 第110-115页 |
| 附录C 1-己烯在MoS_2活性相上的吸附 | 第115-117页 |
| 附录D 反应分子在CoMoS-S位上的吸附 | 第117-118页 |
| 附录E 反应分子在CoMoS-C位上的吸附 | 第118-119页 |
| 在学研究成果 | 第119页 |