摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-8页 |
目录 | 第8-11页 |
1 绪论 | 第11-19页 |
·研究背景及意义 | 第11页 |
·重金属的污染及去除技术 | 第11-13页 |
·重金属离子污染 | 第11-12页 |
·重金属离子去除技术 | 第12-13页 |
·离子印迹技术 | 第13-17页 |
·分子印迹 | 第13-14页 |
·离子印迹 | 第14-15页 |
·离子印迹技术的应用 | 第15-17页 |
·主要研究进展 | 第17-18页 |
·研究内容 | 第18-19页 |
2 课题研究方案 | 第19-27页 |
·试验原料 | 第19-20页 |
·试验仪器 | 第20页 |
·试验方案与方法 | 第20-27页 |
·试验方案 | 第20-21页 |
·CP-SiO_2的合成与性能评价 | 第21-23页 |
·PAA/SiO_2、IIP-PAA/SiO_2的制备与表征 | 第23-25页 |
·PAA/SiO_2、IIP-PAA/SiO_2静态吸附性能的测定 | 第25-27页 |
3 CP-SiO_2的制备与性能评价 | 第27-32页 |
·合成条件对烷基化硅胶性能的影响 | 第27-31页 |
·加水方式的影响 | 第27-28页 |
·水合量的影响 | 第28页 |
·溶剂的选择 | 第28-29页 |
·反应时间的影响 | 第29页 |
·反应温度的影响 | 第29-30页 |
·偶联剂量对烷基化的影响 | 第30-31页 |
·小结 | 第31-32页 |
4 新型聚胺硅胶材料的合成研究 | 第32-44页 |
·PAA/SiO_2的合成 | 第32-33页 |
·IIP-PAA/SiO_2合成的初步试验 | 第33-34页 |
·IIP-PAA/SiO_2合成的条件试验 | 第34-39页 |
·印迹反应前Cu~(2+)与N原子摩尔比的影响 | 第34-35页 |
·交联剂配比的影响 | 第35-36页 |
·反应温度的影响 | 第36-37页 |
·反应时间的影响 | 第37页 |
·反应溶剂的影响 | 第37-38页 |
·阴离子的影响 | 第38-39页 |
·吸附剂性能确定与表征 | 第39-43页 |
·红外表征 | 第39-40页 |
·扫描电镜表征 | 第40页 |
·吸附剂对金属离子的选择性能 | 第40-41页 |
·Scatchard曲线分析 | 第41-43页 |
·小结 | 第43-44页 |
5 吸附性能的研究 | 第44-55页 |
·吸附条件对材料吸附性能的影响 | 第44-47页 |
·初始pH对重金属离子吸附容量的影响 | 第44-45页 |
·吸附剂用量的影响 | 第45页 |
·温度对吸附过程的影响 | 第45-46页 |
·初始浓度的影响 | 第46-47页 |
·材料对金属离子的吸附平衡 | 第47-50页 |
·材料的吸附动力学 | 第50-53页 |
·材料的循环再利用性能 | 第53页 |
·小结 | 第53-55页 |
6 结论与展望 | 第55-57页 |
·结论 | 第55-56页 |
·展望 | 第56-57页 |
参考文献 | 第57-62页 |
作者简历及硕士期间研究成果 | 第62-63页 |
致谢 | 第63页 |