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表面铜离子印迹聚胺硅胶材料的制备及性能研究

摘要第1-6页
Abstract第6-8页
目录第8-11页
1 绪论第11-19页
   ·研究背景及意义第11页
   ·重金属的污染及去除技术第11-13页
     ·重金属离子污染第11-12页
     ·重金属离子去除技术第12-13页
   ·离子印迹技术第13-17页
     ·分子印迹第13-14页
     ·离子印迹第14-15页
     ·离子印迹技术的应用第15-17页
   ·主要研究进展第17-18页
   ·研究内容第18-19页
2 课题研究方案第19-27页
   ·试验原料第19-20页
   ·试验仪器第20页
   ·试验方案与方法第20-27页
     ·试验方案第20-21页
     ·CP-SiO_2的合成与性能评价第21-23页
     ·PAA/SiO_2、IIP-PAA/SiO_2的制备与表征第23-25页
     ·PAA/SiO_2、IIP-PAA/SiO_2静态吸附性能的测定第25-27页
3 CP-SiO_2的制备与性能评价第27-32页
   ·合成条件对烷基化硅胶性能的影响第27-31页
     ·加水方式的影响第27-28页
     ·水合量的影响第28页
     ·溶剂的选择第28-29页
     ·反应时间的影响第29页
     ·反应温度的影响第29-30页
     ·偶联剂量对烷基化的影响第30-31页
   ·小结第31-32页
4 新型聚胺硅胶材料的合成研究第32-44页
   ·PAA/SiO_2的合成第32-33页
   ·IIP-PAA/SiO_2合成的初步试验第33-34页
   ·IIP-PAA/SiO_2合成的条件试验第34-39页
     ·印迹反应前Cu~(2+)与N原子摩尔比的影响第34-35页
     ·交联剂配比的影响第35-36页
     ·反应温度的影响第36-37页
     ·反应时间的影响第37页
     ·反应溶剂的影响第37-38页
     ·阴离子的影响第38-39页
   ·吸附剂性能确定与表征第39-43页
     ·红外表征第39-40页
     ·扫描电镜表征第40页
     ·吸附剂对金属离子的选择性能第40-41页
     ·Scatchard曲线分析第41-43页
   ·小结第43-44页
5 吸附性能的研究第44-55页
   ·吸附条件对材料吸附性能的影响第44-47页
     ·初始pH对重金属离子吸附容量的影响第44-45页
     ·吸附剂用量的影响第45页
     ·温度对吸附过程的影响第45-46页
     ·初始浓度的影响第46-47页
   ·材料对金属离子的吸附平衡第47-50页
   ·材料的吸附动力学第50-53页
   ·材料的循环再利用性能第53页
   ·小结第53-55页
6 结论与展望第55-57页
   ·结论第55-56页
   ·展望第56-57页
参考文献第57-62页
作者简历及硕士期间研究成果第62-63页
致谢第63页

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