| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-32页 |
| ·C/C复合材料在固体火箭发动机中的应用 | 第13-15页 |
| ·C/C复合材料的烧蚀 | 第15-18页 |
| ·C/C复合材料的烧蚀机理 | 第15-17页 |
| ·C/C复合材料烧蚀性能影响因素 | 第17-18页 |
| ·提高C/C复合材料耐烧蚀性能的途径 | 第18-23页 |
| ·基体改性技术 | 第18-20页 |
| ·界面改性技术 | 第20-21页 |
| ·涂层技术 | 第21-23页 |
| ·超高温抗烧蚀涂层材料的选择 | 第23-25页 |
| ·HfC | 第25-29页 |
| ·HfC的基本性质 | 第25-27页 |
| ·HfC涂层的制备方法 | 第27-29页 |
| ·研究方向与思路 | 第29-30页 |
| ·研究方向 | 第29页 |
| ·研究思路 | 第29-30页 |
| ·研究内容 | 第30-32页 |
| 第二章 涂层的制备方法和结构性能分析 | 第32-46页 |
| ·热力学分析 | 第32-34页 |
| ·动力学分析 | 第34-38页 |
| ·反应气体的输送 | 第35-37页 |
| ·气相反应及扩散 | 第37-38页 |
| ·表面吸附及表面化学反应 | 第38页 |
| ·CVD工艺设计 | 第38-39页 |
| ·CVD设备系统 | 第39-41页 |
| ·粉体输送装置 | 第39-40页 |
| ·CVD设备 | 第40-41页 |
| ·涂层制备 | 第41-42页 |
| ·沉积基体的准备 | 第41页 |
| ·HfC涂层的制备 | 第41-42页 |
| ·复相涂层的制备 | 第42页 |
| ·涂层的结构性能分析 | 第42-46页 |
| ·涂层的沉积速率 | 第42页 |
| ·X射线衍射分析 | 第42页 |
| ·X射线光电子能谱 | 第42-43页 |
| ·SEM表面形貌与能谱分析 | 第43页 |
| ·金相显微镜观测 | 第43页 |
| ·电子探针分析 | 第43页 |
| ·显微硬度测试 | 第43-44页 |
| ·热重分析 | 第44页 |
| ·抗烧蚀性能分析 | 第44-46页 |
| 第三章 化学气相沉积HfC涂层的显微结构控制 | 第46-84页 |
| ·沉积温度对涂层显微组织结构的影响 | 第46-56页 |
| ·沉积温度对涂层晶体结构的影响 | 第46-51页 |
| ·沉积温度对涂层表面形貌的影响 | 第51-53页 |
| ·沉积温度对涂层断面组织结构的影响 | 第53-56页 |
| ·反应前驱体C/Hf比对涂层显微组织结构的影响 | 第56-66页 |
| ·C/Hf比对涂层晶体结构的影响 | 第57-61页 |
| ·C/Hf比对涂层表面形貌的影响 | 第61-63页 |
| ·C/Hf比对涂层断面组织结构的影响 | 第63-66页 |
| ·氢气浓度对HfC涂层显微组织结构的影响 | 第66-74页 |
| ·氢气浓度对涂层晶体结构的影响 | 第67-69页 |
| ·氢气浓度对涂层表面形貌的影响 | 第69-71页 |
| ·氢气浓度对涂层断面组织结构的影响 | 第71-74页 |
| ·HfC涂层的微观结构特征及控制 | 第74-75页 |
| ·HfC涂层结构形态的形成及影响因素 | 第75-80页 |
| ·HfC的化学气相沉积机制 | 第75-76页 |
| ·HfC晶粒的择优生长 | 第76-77页 |
| ·HfC涂层结构形态的形成及影响因素 | 第77-80页 |
| ·HfC多层复合结构涂层 | 第80-82页 |
| ·本章小结 | 第82-84页 |
| 第四章 化学气相沉积HfC涂层的均匀性 | 第84-106页 |
| ·HfC涂层的沉积速率及均匀性 | 第84-90页 |
| ·涂层沉积速率及均匀性的研究方法 | 第84-85页 |
| ·沉积温度对涂层沉积速率及均匀性的影响 | 第85-87页 |
| ·反应前驱体C/Hf比对涂层沉积速率和均匀性的影响 | 第87-89页 |
| ·氢气浓度对涂层沉积速率及均匀性的影响 | 第89-90页 |
| ·HfC 1型涂层的沉积均匀性研究 | 第90-95页 |
| ·HfC 1型涂层的成分及晶体结构均匀性 | 第91-92页 |
| ·HfC 1型涂层表面形貌的均匀性 | 第92-93页 |
| ·HfC 1型涂层组织结构的均匀性 | 第93-95页 |
| ·HfC T型涂层的沉积均匀性研究 | 第95-100页 |
| ·HfC T型涂层的成分及晶体结构均匀性 | 第96-97页 |
| ·HfC T型涂层表面形貌的均匀性 | 第97-98页 |
| ·HfC T型涂层组织结构的均匀性 | 第98-100页 |
| ·HfC 2型涂层的沉积均匀性研究 | 第100-105页 |
| ·HfC 2型涂层的成分及晶体结构均匀性 | 第100-101页 |
| ·HfC 2型涂层表面形貌的均匀性 | 第101-103页 |
| ·HfC 2型涂层组织结构的均匀性 | 第103-105页 |
| ·本章小结 | 第105-106页 |
| 第五章 化学气相沉积HfC涂层的力学性能 | 第106-119页 |
| ·纳米压痕测试 | 第106-107页 |
| ·HfC涂层的力学性能 | 第107-116页 |
| ·HfC 1型涂层的力学性能 | 第107-111页 |
| ·HfC T型涂层的力学性能 | 第111-113页 |
| ·HfC 2型涂层的力学性能 | 第113-116页 |
| ·HfC涂层纳米压痕载荷—位移曲线 | 第116-117页 |
| ·HfC涂层力学性能的影响因素 | 第117-118页 |
| ·孔隙对涂层力学性能的影响 | 第117-118页 |
| ·晶粒尺寸对涂层力学性能的影响 | 第118页 |
| ·本章小结 | 第118-119页 |
| 第六章 化学气相沉积HfC涂层的烧蚀特性 | 第119-150页 |
| ·不同结构HfC涂层的烧蚀性能 | 第119-120页 |
| ·不同结构HfC涂层烧蚀后的宏观形貌 | 第120-122页 |
| ·不同结构HfC涂层烧蚀后的显微结构特征 | 第122-131页 |
| ·HfC涂层烧蚀表面的物相组成 | 第122-123页 |
| ·HfC1型涂层烧蚀后显微结构特征 | 第123-126页 |
| ·HfCT型涂层烧蚀后显微结构特征 | 第126-129页 |
| ·HfC2型涂层烧蚀后显微结构特征 | 第129-131页 |
| ·HfC涂层烧蚀过程中组织结构演变 | 第131-136页 |
| ·HfC涂层烧蚀后的氧化产物 | 第131-132页 |
| ·HfC涂层烧蚀后断面组织结构 | 第132-134页 |
| ·HfCxOy的生成 | 第134-136页 |
| ·HfC多层复合结构涂层的烧蚀特性 | 第136-141页 |
| ·HfC多层复合结构涂层的烧蚀性能 | 第136-137页 |
| ·HfC多层复合结构涂层的烧蚀后的表面形貌 | 第137-139页 |
| ·HfC多层复合结构涂层烧蚀后组织结构 | 第139-141页 |
| ·HfC涂层在氧乙炔焰环境下的失效 | 第141-146页 |
| ·HfC涂层的失效形式 | 第141-142页 |
| ·HfC在烧蚀过程中的氧化 | 第142-145页 |
| ·多孔氧化物的烧结 | 第145-146页 |
| ·氧化层及涂层的开裂和脱落 | 第146页 |
| ·HfC涂层的烧蚀机制 | 第146-148页 |
| ·本章小结 | 第148-150页 |
| 第七章 HfC基复相涂层的制备、组织结构与烧蚀性能 | 第150-169页 |
| ·Hf(Ta)C复相涂层 | 第150-160页 |
| ·Hf(Ta)C复相涂层的制备 | 第150页 |
| ·Hf(Ta)C复相涂层的物相组成 | 第150-151页 |
| ·Hf(Ta)C复相涂层的表面成分 | 第151-153页 |
| ·Hf(Ta)C复相涂层的微观组织结构 | 第153-155页 |
| ·Hf(Ta)C复相涂层的烧蚀性能 | 第155-160页 |
| ·Hf(Zr)C复相涂层 | 第160-168页 |
| ·Hf(Zr)C复相涂层的制备 | 第160页 |
| ·Hf(Zr)C复相涂层的物相组成 | 第160-161页 |
| ·Hf(Zr)C复相涂层的表面成分 | 第161-162页 |
| ·Hf(Zr)C复相涂层的微观组织结构 | 第162-164页 |
| ·Hf(Zr)C复相涂层的烧蚀性能 | 第164-168页 |
| ·本章小结 | 第168-169页 |
| 第八章 结论 | 第169-171页 |
| 参考文献 | 第171-187页 |
| 致谢 | 第187-188页 |
| 攻读博士学位期间主要研究成果 | 第188页 |