| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-11页 |
| ·石墨烯概述 | 第7-8页 |
| ·石墨烯简介 | 第7页 |
| ·石墨烯的制备方法 | 第7-8页 |
| ·石墨烯 CVD 概况 | 第8-10页 |
| ·石墨烯 CVD 的制备方法 | 第8-9页 |
| ·石墨烯 CVD 生长系统的设计要求 | 第9页 |
| ·研究石墨烯 CVD 生长系统的意义 | 第9-10页 |
| ·本文章节安排 | 第10-11页 |
| 第二章 石墨烯 CVD 生长系统硬件设计 | 第11-17页 |
| ·石墨烯 CVD 生长系统的结构及原理 | 第11-13页 |
| ·石墨烯 CVD 生长系统的设备选型 | 第13-15页 |
| ·PLC 的选型 | 第13-14页 |
| ·真空管式炉的选择 | 第14-15页 |
| ·真空压力计的选择 | 第15页 |
| ·气体质量流量计的选择 | 第15页 |
| ·机械泵的选择 | 第15页 |
| ·系统的保护措施 | 第15-16页 |
| ·本章小结 | 第16-17页 |
| 第三章 石墨烯 CVD 生长系统软件设计 | 第17-33页 |
| ·上位机监控界面的设计 | 第17-21页 |
| ·WinCC6.0 概述 | 第17页 |
| ·监控界面的组态原则及方法 | 第17-18页 |
| ·主监控界面设计 | 第18-20页 |
| ·监控界面 C 脚本程序设计 | 第20-21页 |
| ·配方下载 | 第21-23页 |
| ·下位机 PLC 程序设计 | 第23-32页 |
| ·PLC 概述 | 第23-25页 |
| ·PLC 程序设计 | 第25-32页 |
| ·本章小结 | 第32-33页 |
| 第四章 石墨烯 CVD 压力控制子系统的建模 | 第33-45页 |
| ·压力对石墨烯生长的影响 | 第33-34页 |
| ·系统辨识与建模概述 | 第34-36页 |
| ·系统建模方法 | 第34页 |
| ·模型辨识的步骤 | 第34-35页 |
| ·常见的过程模型 | 第35-36页 |
| ·石墨烯 CVD 压力控制子系统的模型辨识 | 第36-44页 |
| ·石墨烯 CVD 压力控制系统的特点 | 第36-37页 |
| ·实验数据的获取 | 第37-39页 |
| ·模型的建立 | 第39-43页 |
| ·模型检验 | 第43-44页 |
| ·本章小结 | 第44-45页 |
| 第五章 石墨烯 CVD 压力控制子系统控制方法研究 | 第45-67页 |
| ·压力的控制模式及性能指标 | 第45-46页 |
| ·手动控制模式 | 第45页 |
| ·自动控制模式 | 第45页 |
| ·手动与自动复合控制模式 | 第45-46页 |
| ·压力控制系统的性能指标 | 第46页 |
| ·压力自动控制的 PID 控制算法 | 第46-51页 |
| ·PID 控制简介 | 第46-47页 |
| ·PID 控制器设计 | 第47-48页 |
| ·系统仿真及数据分析 | 第48-50页 |
| ·实际系统的压力控制 | 第50-51页 |
| ·压力自动控制的模糊 PID 参数自整定控制算法 | 第51-62页 |
| ·模糊控制原理 | 第51-52页 |
| ·模糊 PID 参数自整定控制原理 | 第52-53页 |
| ·增量式模糊 PID 参数自整定控制系统设计 | 第53-60页 |
| ·系统仿真及数据分析 | 第60-62页 |
| ·神经元自适应控制算法的可行性分析 | 第62-66页 |
| ·神经元自适应 PID 控制原理 | 第62-63页 |
| ·权值学习算法改进 | 第63-64页 |
| ·神经元自适应 PID 仿真控制系统设计 | 第64-65页 |
| ·系统仿真及数据分析 | 第65-66页 |
| ·本章小结 | 第66-67页 |
| 第六章 总结与展望 | 第67-69页 |
| 致谢 | 第69-71页 |
| 参考文献 | 第71-74页 |