| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-30页 |
| ·研究背景 | 第11-12页 |
| ·MoSi_2的晶体结构、组织和性能 | 第12-15页 |
| ·MoSi_2晶体结构 | 第12-13页 |
| ·MoSi_2基本性质 | 第13-15页 |
| ·MoSi_2及其复合材料的应用及研究现状 | 第15-17页 |
| ·MoSi_2及其复合材料的应用 | 第15-17页 |
| ·MoSi_2与其复合材料存在的问题与研究现状 | 第17-22页 |
| ·合金化改性 | 第18-20页 |
| ·第二相改性 | 第20-22页 |
| ·MoSi_2-SiC 复合材料 | 第20-21页 |
| ·MoSi_2-Si_3N_4复合材料 | 第21页 |
| ·MoSi_2-Al_2O_3复合材料 | 第21-22页 |
| ·MoSi_2-ZrO_2复合材料 | 第22页 |
| ·MoSi_2-TiC 复合材料 | 第22页 |
| ·MoSi_2氧化性能的研究近况 | 第22-28页 |
| ·MoSi_2氧化性能的研究进展 | 第22-23页 |
| ·MoSi_2氧化性能的热力学研究 | 第23-25页 |
| ·MoSi_2氧化性能的动力学研究 | 第25-26页 |
| ·MoSi_2氧化性能的影响因素 | 第26页 |
| ·MoSi_2在不同温度区间的氧化性能 | 第26-28页 |
| ·合金元素对 MoSi_2氧化性能的影响 | 第28页 |
| ·课题的提出 | 第28页 |
| ·课题的主要研究内容 | 第28-29页 |
| ·本课题的研究意义 | 第29-30页 |
| 第二章 实验材料与实验方案 | 第30-34页 |
| ·实验材料及其预处理 | 第30页 |
| ·实验靶材的制备 | 第30页 |
| ·实验设备及操作步骤 | 第30-31页 |
| ·实验装置 | 第31-32页 |
| ·分析仪器及方法 | 第32-34页 |
| ·微观组织分析 | 第32页 |
| ·划痕测试 | 第32页 |
| ·氧化性能测试 | 第32-33页 |
| ·X 射线光电子能谱测试 | 第33页 |
| ·电化学性能测试 | 第33-34页 |
| 第三章 纳米晶 Mo(Si_(1-x)A_x)_2涂层组织分析 | 第34-42页 |
| ·本章提要 | 第34页 |
| ·纳米晶 Mo(Si_(1-x)A_x)_2涂层组织分析 | 第34-41页 |
| ·纳米晶 Mo(Si_(1-x)A_x)_2涂层表面 SEM 分析 | 第34-35页 |
| ·纳米晶 Mo(Si_(1-x)A_x)_2涂层 XRD 分析 | 第35页 |
| ·纳米晶 Mo(Si_(1-x)A_x)_2涂层 HRTEM 分析 | 第35-36页 |
| ·纳米晶 Mo(Si_(1-x)A_x)_2涂层截面 SEM 分析 | 第36-40页 |
| ·纳米晶 Mo(Si_(1-x)A_x)_2涂层的结合力分析 | 第40-41页 |
| ·本章小结 | 第41-42页 |
| 第四章 纳米晶 Mo(Si_(1-x)A_x)_2涂层氧化性能 | 第42-54页 |
| ·本章提要 | 第42页 |
| ·纳米晶 Mo(Si_(1-x)A_x)_2涂层在 500℃空气中等温氧化 | 第42-48页 |
| ·纳米晶 Mo(Si_(1-x)A_x)_2涂层 500℃下等温氧化动力学曲线 | 第42-43页 |
| ·纳米晶 Mo(Si_(1-x)A_x)_2涂层氧化产物 XRD 分析(500℃) | 第43页 |
| ·纳米晶 Mo(Si_(1-x)A_x)_2涂层氧化形貌分析(500℃) | 第43-48页 |
| ·纳米晶 Mo(Si_(1-x)A_x)_2涂层在 600℃空气中等温氧化 | 第48-50页 |
| ·纳米晶 Mo(Si_(1-x)A_x)_2涂层 600℃下等温氧化动力学曲线 | 第48页 |
| ·纳米晶 Mo(Si_(1-x)A_x)_2涂层氧化产物 XRD 分析(600℃) | 第48-49页 |
| ·纳米晶 Mo(Si_(1-x)A_x)_2涂层氧化形貌分析(600℃) | 第49-50页 |
| ·纳米晶 Mo(Si_(1-x)A_x)_2涂层在 700℃空气中等温氧化 | 第50-53页 |
| ·纳米晶 Mo(Si_(1-x)A_x)_2涂层 700℃下等温氧化动力学曲线 | 第50-51页 |
| ·纳米晶 Mo(Si_(1-x)A_x)_2涂层氧化产物 XRD 分析(700℃) | 第51-52页 |
| ·纳米晶 Mo(Si_(1-x)A_x)_2涂层氧化形貌分析(700℃) | 第52-53页 |
| ·本章小结 | 第53-54页 |
| 第五章 Mo(Si_(1-x)A_x)_2涂层氧化膜的电化学性能 | 第54-77页 |
| ·前言及提要 | 第54页 |
| ·X 射线光电子能谱(XPS)分析 | 第54-57页 |
| ·纳米晶 Mo(Si_(1-x)A_x)_2涂层氧化膜电化学性能测试 | 第57-76页 |
| ·低频阻抗-时间测试 | 第57-60页 |
| ·开路电位(OCP)-时间测试 | 第60-63页 |
| ·电化学阻抗谱(EIS)分析 | 第63-73页 |
| ·氧化 1h 后交流阻抗分析 | 第63-66页 |
| ·氧化 5h 后交流阻抗分析 | 第66-68页 |
| ·氧化 10h 后交流阻抗分析 | 第68-69页 |
| ·氧化 20h 后交流阻抗分析 | 第69-71页 |
| ·氧化 30h 后交流阻抗分析 | 第71-73页 |
| ·断点频率(Break-point frequency) | 第73-76页 |
| ·本章小结 | 第76-77页 |
| 第六章 结论 | 第77-78页 |
| 参考文献 | 第78-87页 |
| 致谢 | 第87-88页 |
| 在校期间的研究成果及发表的学术论文 | 第88页 |
