| 摘要 | 第1-8页 |
| Abstract | 第8-11页 |
| 目录 | 第11-14页 |
| 第一章 绪言 | 第14-16页 |
| ·研究背景与意义 | 第14页 |
| ·问题的提出 | 第14-15页 |
| ·本文的工作 | 第15-16页 |
| 第二章 金属-有机框架膜的制备与后功能化修饰的研究进展 | 第16-42页 |
| ·引言 | 第16页 |
| ·金属-有机框架材料的发展与应用 | 第16-20页 |
| ·金属-有机框架材料的发展 | 第16-17页 |
| ·金属-有机框架材料的应用 | 第17-20页 |
| ·金属-有机框架膜的研究进展 | 第20-38页 |
| ·金属-有机框架膜的制备 | 第21-27页 |
| ·金属-有机框架膜的应用 | 第27-38页 |
| ·金属-有机框架膜的后功能化修饰 | 第38-39页 |
| ·金属-有机框架膜的研究展望 | 第39-42页 |
| 第三章 多孔氧化铝基板金属-有机框架膜的制备及气体分离研究 | 第42-64页 |
| ·前言 | 第42-43页 |
| ·实验部分 | 第43-45页 |
| ·试剂与仪器 | 第43-44页 |
| ·MIL-100(In)粉末和膜的制备 | 第44页 |
| ·MOF膜的气体渗透测试 | 第44-45页 |
| ·结果与分析 | 第45-62页 |
| ·MIL-100(In)粉末的合成、表征与吸附性能研究 | 第45-51页 |
| ·多孔阳极氧化铝基板MIL-100(In)多晶膜 | 第51-58页 |
| ·多孔α氧化铝基板MIL-100(In)多晶膜 | 第58-62页 |
| ·本章小结 | 第62-64页 |
| 第四章 硅基板金属-有机框架膜的制备、稀土离子后修饰及硫醇蒸气的原位荧光探测 | 第64-82页 |
| ·前言 | 第64-65页 |
| ·实验部分 | 第65-67页 |
| ·试剂与仪器 | 第65页 |
| ·硅片基板的纳米Pt颗粒修饰 | 第65页 |
| ·硅基板MIL-100(In)多晶膜的制备 | 第65-66页 |
| ·硅基板MIL-100(In)(?)Ln~(3+)多晶膜的制备 | 第66页 |
| ·发光膜材料对硫醇气体的探测实验 | 第66-67页 |
| ·结果与分析 | 第67-80页 |
| ·硅基板MIL-100(In)多晶膜表征 | 第67-69页 |
| ·硅基板MIL-100(In)多晶膜生长过程与机理的研究 | 第69-72页 |
| ·硅基板MIL-100(In)(?)Ln~(3+)多晶膜以及荧光探测 | 第72-80页 |
| ·本章小结 | 第80-82页 |
| 第五章 ITO玻璃基板金属-有机框架膜的制备、稀土离子后修饰及氧气的原位荧光探测 | 第82-108页 |
| ·前言 | 第82-83页 |
| · | 第83-85页 |
| ·试剂与仪器 | 第83页 |
| ·ITO玻璃基板MIL-96(In)、CPM-5和MIL-100(In)多晶膜的制备 | 第83-84页 |
| ·ITO玻璃基板CPM-5(?)Tb~(3+)、MIL-100(In)(?)Tb~(3+)多晶膜的制备 | 第84页 |
| ·发光膜的氧气探测实验 | 第84-85页 |
| ·结果与分析 | 第85-107页 |
| ·ITO玻璃基板MOF膜表征 | 第85-90页 |
| ·ITO玻璃基板MOF膜的生长机理研究 | 第90-94页 |
| ·CPM-5(?)Tb~(3+)、MIL-100(In)(?)Tb~(3+)多晶膜表征 | 第94-98页 |
| ·CPM-5(?)Tb~(3+)、MIL-100(In)(?)Tb~(3+)多晶膜的氧气原位荧光探测 | 第98-107页 |
| ·本章小结 | 第107-108页 |
| 第六章 结论 | 第108-112页 |
| ·全文总结 | 第108-110页 |
| ·本文主要创新点 | 第110页 |
| ·未来工作展望 | 第110-112页 |
| 参考文献 | 第112-128页 |
| 致谢 | 第128-130页 |
| 作者简历 | 第130-132页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文与取得的其他研究成果 | 第132页 |
