聚天冬氨酸的微波辐射合成及性能研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-11页 |
| Contents | 第11-14页 |
| 引言 | 第14-15页 |
| 1 文献综述 | 第15-27页 |
| ·阻垢剂研究进展 | 第15-19页 |
| ·阻垢剂研究现状及分类 | 第15-18页 |
| ·阻垢剂发展趋势 | 第18-19页 |
| ·聚天冬氨酸的研究进展 | 第19-24页 |
| ·聚天冬氨酸结构和性质 | 第19-20页 |
| ·聚天冬氨酸的应用 | 第20-22页 |
| ·聚天冬氨酸的合成 | 第22-24页 |
| ·微波化学与其发展 | 第24-26页 |
| ·微波技术概述 | 第24页 |
| ·微波技术在化学中的应用 | 第24-25页 |
| ·微波技术在聚合反应中的应用 | 第25页 |
| ·微波技术合成聚天冬氨酸 | 第25-26页 |
| ·课题研究意义与研究内容 | 第26-27页 |
| ·研究意义 | 第26页 |
| ·研究内容 | 第26-27页 |
| 2 聚天冬氨酸的微波辐射合成 | 第27-38页 |
| ·实验试剂及仪器 | 第27-28页 |
| ·实验方案的确定 | 第28-29页 |
| ·合成方法的选择 | 第28页 |
| ·催化剂的选择 | 第28页 |
| ·介质溶剂的选择 | 第28-29页 |
| ·聚天冬氨酸的合成 | 第29-32页 |
| ·中间体PSI的合成 | 第29页 |
| ·聚天冬氨酸的合成 | 第29-30页 |
| ·合成PASP的工艺流程 | 第30页 |
| ·聚天冬氨酸的结构表征 | 第30-31页 |
| ·产品分析方法 | 第31-32页 |
| ·结果讨论 | 第32-37页 |
| ·聚天冬氨酸合成的影响因素 | 第32-35页 |
| ·聚天冬氨酸的表征 | 第35-37页 |
| ·结论 | 第37-38页 |
| 3 聚天冬氨酸阻垢分散性能研究 | 第38-50页 |
| ·阻垢性能测试方法 | 第38页 |
| ·仪器和药品 | 第38-39页 |
| ·阻碳酸钙性能测定 | 第39-45页 |
| ·实验方法 | 第39-40页 |
| ·投加量与阻垢率的关系 | 第40页 |
| ·不同因素对聚天冬氨酸阻垢性能的影响 | 第40-45页 |
| ·阻硫酸钙性能测定 | 第45-47页 |
| ·实验方法 | 第45页 |
| ·阻垢率与投加量的关系 | 第45-46页 |
| ·不同因素对聚天冬氨酸阻垢性能的影响 | 第46-47页 |
| ·分散性能评定 | 第47-48页 |
| ·分散氧化铁的性能评定 | 第48页 |
| ·小结 | 第48-50页 |
| 4 PASP和ATMP复配阻垢性能研究 | 第50-56页 |
| ·最佳配比的确定 | 第50-51页 |
| ·复配物阻垢率的测定 | 第51-52页 |
| ·温度对复配物阻垢率的影响 | 第52页 |
| ·时间对复配物阻垢率的影响 | 第52-53页 |
| ·Ca~(2+)浓度对阻垢率的影响 | 第53-54页 |
| ·HCO_3~-浓度对阻垢率的影响 | 第54页 |
| ·复配物的经济评价 | 第54-55页 |
| ·小结 | 第55-56页 |
| 5 聚天冬氨酸阻垢机理研究 | 第56-68页 |
| ·阻垢剂阻垢机理的基本观点 | 第56-57页 |
| ·螯合增溶作用 | 第56页 |
| ·晶格畸变 | 第56页 |
| ·凝聚与分散 | 第56-57页 |
| ·再生—自解脱膜假说 | 第57页 |
| ·双电层作用机理 | 第57页 |
| ·聚天冬氨酸阻垢机理研究 | 第57-67页 |
| ·试验药品与仪器 | 第57-58页 |
| ·试验方法 | 第58页 |
| ·阻碳酸钙垢机理 | 第58-63页 |
| ·阻硫酸钙机理 | 第63-66页 |
| ·聚天冬氨酸阻垢机理 | 第66-67页 |
| ·小结 | 第67-68页 |
| 6 结论与展望 | 第68-70页 |
| ·结论 | 第68页 |
| ·展望 | 第68-70页 |
| 参考文献 | 第70-75页 |
| 致谢 | 第75-76页 |
| 作者简介及读研期间发表的文章 | 第76页 |
