| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-31页 |
| §1.1 引言 | 第11-12页 |
| §1.2 图案化结构制备技术 | 第12-21页 |
| §1.2.1 电子束曝光技术（Electron Beam Lithograph） | 第13-14页 |
| §1.2.2 蘸笔印刷 (DPN) | 第14-16页 |
| §1.2.3 纳米压印技术（Nanoimprint Lithograph） | 第16-18页 |
| §1.2.4 其他技术 | 第18-21页 |
| §1.3 纳米电极制备的研究现状 | 第21-23页 |
| §1.4 目前存在的主要问题 | 第23-24页 |
| §1.5 本论文研究的目的、思路及内容 | 第24-26页 |
| §1.5.1 论文研究的目的和思路 | 第24页 |
| §1.5.2 论文研究的主要内容 | 第24-26页 |
| 参考文献 | 第26-31页 |
| 第二章 PMMA 单层胶纳米压印制备纳米电极 | 第31-47页 |
| §2.1 引言 | 第31-32页 |
| §2.2 实验部分 | 第32-37页 |
| §2.2.1 电极模板参数 | 第33-34页 |
| §2.2.2 纳米压印和 RIE 过程 | 第34-36页 |
| §2.2.3 金属沉积与剥离 | 第36页 |
| §2.2.4 样品测试与表征 | 第36-37页 |
| §2.3 结果与讨论 | 第37-43页 |
| §2.3.1 温度和压力对压印过程的影响 | 第37-40页 |
| §2.3.2 RIE 刻蚀条件对 PMMA 表面结构的影响 | 第40-41页 |
| §2.3.3 Ti 和 Au 的沉积厚度对电极剥离的影响 | 第41-43页 |
| §2.3.4 纳米电极的 AFM 表征和 IV 测试 | 第43页 |
| §2.4 本章小结 | 第43-44页 |
| 参考文献 | 第44-47页 |
| 第三章 PMMA/SF5 双层胶纳米压印制备纳米电极 | 第47-63页 |
| §3.1 引言 | 第47-49页 |
| §3.2 实验部分 | 第49-51页 |
| §3.2.1 纳米压印和 RIE 过程 | 第49-50页 |
| §3.2.2 TMAH 溶液显影和 NMP 溶液剥离 | 第50页 |
| §3.2.3 金属沉积与剥离 | 第50-51页 |
| §3.2.4 样品测试与表征 | 第51页 |
| §3.3 结果与讨论 | 第51-59页 |
| §3.3.1 RIE 刻蚀条件对 SF5/PMMA 聚合物表面结构的影响 | 第51-53页 |
| §3.3.2 TMAH 显影浓度和时间对电极结构的影响 | 第53-57页 |
| §3.3.3 TMAH 显影原理 | 第57-59页 |
| §3.3.4 纳米电极的 AFM 表征和 IV 测试 | 第59页 |
| §3.4 本章小结 | 第59-61页 |
| 参考文献 | 第61-63页 |
| 第四章 EBL 技术制备纳米电极 | 第63-75页 |
| §4.1 引言 | 第63-64页 |
| §4.2 实验部分 | 第64-66页 |
| §4.2.1 基底准备与 EBL 曝光 | 第64-66页 |
| §4.2.2 RIE 去残胶、显影、金属沉积及剥离 | 第66页 |
| §4.3 结果与讨论 | 第66-70页 |
| §4.4 本章小结 | 第70-72页 |
| 参考文献 | 第72-75页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文目录 | 第75-77页 |
| 致谢 | 第77-78页 |
