| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-31页 |
| ·引言 | 第11-12页 |
| ·取代聚乙炔及其光电性能 | 第12-16页 |
| ·聚乙炔概述 | 第12-13页 |
| ·聚乙炔衍生物的光学性质 | 第13-16页 |
| ·含脲/硫脲的阴离子受体 | 第16-23页 |
| ·阴离子的结构特点 | 第16-17页 |
| ·阴离子的识别 | 第17-18页 |
| ·脲/硫脲类阴离子受体研究进展 | 第18-23页 |
| ·聚合物阴离子受体 | 第23-28页 |
| ·聚合物阴离子受体 | 第23-25页 |
| ·别构效应 | 第25-27页 |
| ·基于正别构效应聚合物阴离子受体 | 第27-28页 |
| ·本课题的研究内容及意义 | 第28-31页 |
| ·研究意义 | 第28页 |
| ·研究内容 | 第28-30页 |
| ·论文创新点 | 第30-31页 |
| 第二章 含脲基的取代聚乙炔及其阴离子识别性能 | 第31-55页 |
| ·引言 | 第31-32页 |
| ·实验部分 | 第32-37页 |
| ·原料与试剂 | 第32页 |
| ·设备与仪器 | 第32-33页 |
| ·单体的合成与表征 | 第33-34页 |
| ·催化剂的合成 | 第34页 |
| ·聚合反应 | 第34-35页 |
| ·聚合物结构表征 | 第35页 |
| ·阴离子识别实验 | 第35-37页 |
| ·结果与讨论 | 第37-54页 |
| ·单体合成与表征 | 第37-39页 |
| ·聚合物的合成与表征 | 第39-41页 |
| ·不同溶剂的聚合物溶液紫外-可见吸收光谱 | 第41-43页 |
| ·阴离子识别性能 | 第43-45页 |
| ·脲基与氟离子的作用方式 | 第45-48页 |
| ·聚合物对阴离子的亲和力 | 第48-54页 |
| ·本章小结 | 第54-55页 |
| 第三章 含硫脲基的取代聚乙炔及其阴离子识别性能 | 第55-79页 |
| ·引言 | 第55-56页 |
| ·实验部分 | 第56-60页 |
| ·原料与试剂 | 第56页 |
| ·设备与仪器 | 第56-57页 |
| ·单体的合成与表征 | 第57-58页 |
| ·聚合反应 | 第58-59页 |
| ·聚合物结构表征 | 第59页 |
| ·阴离子识别实验 | 第59-60页 |
| ·结果与讨论 | 第60-77页 |
| ·单体和聚合物的合成与表征 | 第60-62页 |
| ·不同溶剂的聚合物溶液的吸收光谱 | 第62-64页 |
| ·阴离子识别性能 | 第64-66页 |
| ·受体与阴离子的作用方式 | 第66-68页 |
| ·聚合物与阴离子的络合比 | 第68-69页 |
| ·硫脲基与阴离子结合能力 | 第69-77页 |
| ·本章小结 | 第77-79页 |
| 第四章 阴离子识别能力比较及机理探讨 | 第79-86页 |
| ·引言 | 第79页 |
| ·结果与讨论 | 第79-84页 |
| ·poly(1)和 poly(2)的比较与机理探讨 | 第79-81页 |
| ·poly(4)与 poly(3)及 poly(1)的比较与机理探讨 | 第81-83页 |
| ·与已报道聚合物受体比较 | 第83-84页 |
| ·本章小结 | 第84-86页 |
| 结论 | 第86-87页 |
| 参考文献 | 第87-96页 |
| 攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第96-97页 |
| 致谢 | 第97-98页 |
| 答辩委员会对论文的评定意见 | 第98页 |