| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-7页 |
| 目录 | 第7-10页 |
| 第1章 引言 | 第10-27页 |
| ·近地轨道空间环境 | 第10-14页 |
| ·原子氧 | 第11-13页 |
| ·真空紫外 | 第13页 |
| ·其它因素 | 第13-14页 |
| ·原子氧环境效应 | 第14-20页 |
| ·表征方法 | 第15-17页 |
| ·评估方法 | 第17-19页 |
| ·各种聚合物的原子氧效应 | 第19-20页 |
| ·抗原子氧防护涂层 | 第20-25页 |
| ·无机涂层 | 第21-22页 |
| ·有机聚合物涂层 | 第22-24页 |
| ·含氟有机聚合物涂层 | 第22页 |
| ·有机硅聚合物涂层 | 第22-23页 |
| ·含磷聚合物涂层 | 第23-24页 |
| ·有机-无机杂化材料 | 第24-25页 |
| ·问题的提出和主要研究内容 | 第25-27页 |
| 第2章 原子氧地面模拟设备及其性能 | 第27-42页 |
| ·原子氧模拟设备构造与工作原理 | 第27-29页 |
| ·氧等离子体参数测量 | 第29-32页 |
| ·原子氧束流的标定 | 第32-35页 |
| ·原子氧束流动能 | 第32-33页 |
| ·原子氧束流通量 | 第33-35页 |
| ·原子氧对聚酰亚胺侵蚀行为研究 | 第35-41页 |
| ·实验方法 | 第35页 |
| ·实验结果与讨论 | 第35-41页 |
| ·原子氧侵蚀动力学 | 第35-38页 |
| ·表面形貌 | 第38-39页 |
| ·表面结构变化 | 第39-41页 |
| ·结论 | 第41-42页 |
| 第3章 POSS/PI杂化材料的制备及抗原子氧侵蚀性能研究 | 第42-60页 |
| ·杂化材料的制备 | 第43-46页 |
| ·实验材料 | 第43-44页 |
| ·制备方法 | 第44-46页 |
| ·杂化材料的性能测试 | 第46-50页 |
| ·光学性能分析 | 第46-47页 |
| ·杂化材料结构IR分析 | 第47-48页 |
| ·杂化材料的热稳定性分析 | 第48-50页 |
| ·原子氧对杂化材料侵蚀效应 | 第50-58页 |
| ·侵蚀动力学 | 第50-51页 |
| ·表面形貌 | 第51-53页 |
| ·原子氧对杂化膜的结构影响 | 第53-57页 |
| ·光学性能变化 | 第57-58页 |
| ·讨论 | 第58页 |
| ·小结 | 第58-60页 |
| 第4章 有机硅/POSS杂化涂层的制备及抗原子氧侵蚀性能研究 | 第60-74页 |
| ·杂化涂层的制备 | 第60-62页 |
| ·杂化材料制备原理 | 第60-61页 |
| ·杂化涂层的制备方法 | 第61-62页 |
| ·杂化涂层的性能测试 | 第62-65页 |
| ·涂层成分的FTIR分析 | 第62-63页 |
| ·涂层结合力评定 | 第63-64页 |
| ·杂化材料的热稳定性分析 | 第64-65页 |
| ·涂层的光学性能 | 第65页 |
| ·杂化涂层的原子氧暴露实验 | 第65-73页 |
| ·侵蚀动力学 | 第65-66页 |
| ·表面形貌分析 | 第66-68页 |
| ·表面成分分析 | 第68-73页 |
| ·小结 | 第73-74页 |
| 第5章 离子注入改性有机硅涂层抗原子氧侵蚀性能研究 | 第74-82页 |
| ·实验方法 | 第74-75页 |
| ·涂层制备 | 第74页 |
| ·暴露实验及分析方法 | 第74-75页 |
| ·原子氧暴露实验结果 | 第75-80页 |
| ·侵蚀动力学 | 第75-76页 |
| ·表面形貌分析 | 第76-77页 |
| ·XPS成分分析 | 第77-80页 |
| ·结果讨论 | 第80-81页 |
| ·小结 | 第81-82页 |
| 第6章 结论 | 第82-84页 |
| 参考文献 | 第84-92页 |
| 攻读学位期间的研究成果 | 第92-93页 |
| 致谢 | 第93页 |
