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窄带半导体Bi2MoO6、CuWO4的合成与光催化性能研究

摘要第1-6页
Abstract第6-7页
目录第7-9页
1 绪论第9-23页
   ·半导体光催化第9-11页
     ·半导体光催化反应类型第9页
     ·半导体光催化反应过程第9-11页
   ·影响光催化反应的因素第11-13页
     ·影响光催化活性的内因第11-13页
     ·影响光催化活性的外因第13页
   ·半导体光催化剂可见光化的方法第13-14页
     ·复合半导体第13页
     ·染料敏化第13页
     ·金属和非金属掺杂第13-14页
   ·制备纳米粉体常用的液相方法第14-16页
     ·纳米材料简介第14-15页
     ·半导体光催化剂纳米材料的制备方法第15-16页
   ·纳米材料常用的表征手段第16-19页
     ·X射线衍射分析(XRD)第16-17页
     ·扫描电子显微分析(SEM)第17页
     ·透射电子显微分析(TEM)第17页
     ·X射线光电子能谱分析(XPS)第17-18页
     ·红外及拉曼光谱(FT-IR)第18页
     ·紫外-可见吸收光谱分析(UV-vis)第18页
     ·光催化性能测试第18-19页
   ·半导体光催化剂的应用及发展前景第19-20页
     ·太阳能光催化分解水第19页
     ·环境净化功能第19-20页
     ·光催化合成第20页
   ·本课题科学意义与研究背景第20-21页
   ·本课题主要内容及创新性第21-23页
2 溶剂热法制备γ-Bi_2MoO_6第23-42页
   ·引言第23-24页
   ·实验部分第24-27页
     ·实验所用试剂及设备第24-25页
     ·实验步骤第25-26页
     ·样品的检测与表征第26-27页
   ·结果与讨论第27-41页
     ·反应温度、保温时间的选择第27-28页
     ·加入不同SDBS的量对产物的影响第28-29页
     ·不同反应pH值的影响第29-30页
     ·溶剂比例对样品相结构的影响第30-31页
     ·产物形貌分析第31-35页
     ·γ-Bi_2MoO_6纳米片的吸收光谱以及带隙分析第35-37页
     ·γ-Bi2_MoO_6光催化性能第37-41页
   ·本章小结第41-42页
3 溶胶-凝胶法制备CuWO_4第42-51页
   ·引言第42页
   ·溶胶-凝胶快速烧结法制备CuWO_4纳米颗粒第42-44页
     ·实验试剂第42页
     ·样品制备第42-43页
     ·检测与表征第43-44页
   ·结果与讨论第44-49页
     ·XRD分析第44-46页
     ·CuWO_4形貌分析第46-47页
     ·CuWO_4的紫外可见吸收光谱以及带隙分析第47-48页
     ·CuWO_4的光催化性能研究第48-49页
   ·本章小结第49-51页
4 结论与展望第51-52页
致谢第52-53页
参考文献第53-58页
附录第58页

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