摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
目录 | 第7-9页 |
1 绪论 | 第9-23页 |
·半导体光催化 | 第9-11页 |
·半导体光催化反应类型 | 第9页 |
·半导体光催化反应过程 | 第9-11页 |
·影响光催化反应的因素 | 第11-13页 |
·影响光催化活性的内因 | 第11-13页 |
·影响光催化活性的外因 | 第13页 |
·半导体光催化剂可见光化的方法 | 第13-14页 |
·复合半导体 | 第13页 |
·染料敏化 | 第13页 |
·金属和非金属掺杂 | 第13-14页 |
·制备纳米粉体常用的液相方法 | 第14-16页 |
·纳米材料简介 | 第14-15页 |
·半导体光催化剂纳米材料的制备方法 | 第15-16页 |
·纳米材料常用的表征手段 | 第16-19页 |
·X射线衍射分析(XRD) | 第16-17页 |
·扫描电子显微分析(SEM) | 第17页 |
·透射电子显微分析(TEM) | 第17页 |
·X射线光电子能谱分析(XPS) | 第17-18页 |
·红外及拉曼光谱(FT-IR) | 第18页 |
·紫外-可见吸收光谱分析(UV-vis) | 第18页 |
·光催化性能测试 | 第18-19页 |
·半导体光催化剂的应用及发展前景 | 第19-20页 |
·太阳能光催化分解水 | 第19页 |
·环境净化功能 | 第19-20页 |
·光催化合成 | 第20页 |
·本课题科学意义与研究背景 | 第20-21页 |
·本课题主要内容及创新性 | 第21-23页 |
2 溶剂热法制备γ-Bi_2MoO_6 | 第23-42页 |
·引言 | 第23-24页 |
·实验部分 | 第24-27页 |
·实验所用试剂及设备 | 第24-25页 |
·实验步骤 | 第25-26页 |
·样品的检测与表征 | 第26-27页 |
·结果与讨论 | 第27-41页 |
·反应温度、保温时间的选择 | 第27-28页 |
·加入不同SDBS的量对产物的影响 | 第28-29页 |
·不同反应pH值的影响 | 第29-30页 |
·溶剂比例对样品相结构的影响 | 第30-31页 |
·产物形貌分析 | 第31-35页 |
·γ-Bi_2MoO_6纳米片的吸收光谱以及带隙分析 | 第35-37页 |
·γ-Bi2_MoO_6光催化性能 | 第37-41页 |
·本章小结 | 第41-42页 |
3 溶胶-凝胶法制备CuWO_4 | 第42-51页 |
·引言 | 第42页 |
·溶胶-凝胶快速烧结法制备CuWO_4纳米颗粒 | 第42-44页 |
·实验试剂 | 第42页 |
·样品制备 | 第42-43页 |
·检测与表征 | 第43-44页 |
·结果与讨论 | 第44-49页 |
·XRD分析 | 第44-46页 |
·CuWO_4形貌分析 | 第46-47页 |
·CuWO_4的紫外可见吸收光谱以及带隙分析 | 第47-48页 |
·CuWO_4的光催化性能研究 | 第48-49页 |
·本章小结 | 第49-51页 |
4 结论与展望 | 第51-52页 |
致谢 | 第52-53页 |
参考文献 | 第53-58页 |
附录 | 第58页 |