改良西门子法生产多晶硅中反应精馏除硼的模拟研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-5页 |
| 目录 | 第5-7页 |
| 第一章 文献综述 | 第7-24页 |
| ·研究背景 | 第7-9页 |
| ·多晶硅及其应用 | 第7页 |
| ·多晶硅国内外发展概况 | 第7-8页 |
| ·我国多晶硅存在的问题 | 第8-9页 |
| ·改良西门子法工艺概况 | 第9-14页 |
| ·多晶硅主要生产工艺 | 第9-11页 |
| ·我国改良西门子法存在的问题 | 第11-14页 |
| ·改良西门子法产品杂质类型及来源 | 第14-17页 |
| ·产品中的杂质类型 | 第14-15页 |
| ·杂质的来源 | 第15-16页 |
| ·硼杂质 | 第16-17页 |
| ·现有的除硼工艺 | 第17-22页 |
| ·冶金法 | 第18页 |
| ·多级精馏 | 第18-19页 |
| ·吸附法 | 第19-20页 |
| ·湿氮除硼 | 第20-22页 |
| ·反应法 | 第22页 |
| ·除硼工艺的流程模拟 | 第22-23页 |
| ·本文的研究目的 | 第23-24页 |
| 第二章 反应精馏除硼工艺设计与模拟 | 第24-44页 |
| ·反应精馏除硼工艺的建立 | 第24-25页 |
| ·反应精馏的发展概况 | 第24页 |
| ·反应精馏的特点 | 第24-25页 |
| ·反应精馏除硼工艺模拟 | 第25-26页 |
| ·反应剂的特性 | 第25页 |
| ·物性方法的选择 | 第25-26页 |
| ·三氯氢硅精制料除硼粗馏工艺 | 第26-38页 |
| ·工艺流程 | 第27页 |
| ·压力 | 第27-28页 |
| ·理论板数 | 第28页 |
| ·进料组成 | 第28-29页 |
| ·模拟反应剂的选择 | 第29-30页 |
| ·物料衡算 | 第30-31页 |
| ·结果与讨论 | 第31-38页 |
| ·冷氢化料反应精馏除硼工艺 | 第38-43页 |
| ·进料组成 | 第38-39页 |
| ·物料衡算 | 第39页 |
| ·工艺流程 | 第39-40页 |
| ·结果与讨论 | 第40-43页 |
| ·本章小结 | 第43-44页 |
| 第三章 新型高效除硼多层丝网填料的开发与测试 | 第44-65页 |
| ·规整填料的发展概况 | 第44页 |
| ·新型高效除硼多层丝网填料 PACTU-800 | 第44-46页 |
| ·氯硅烷反应精馏除硼所需填料特点 | 第44-45页 |
| ·多层丝网填料 PACTU-800 | 第45-46页 |
| ·流体力学性能测试 | 第46-55页 |
| ·实验物系 | 第46-47页 |
| ·实验装置 | 第47-48页 |
| ·实验步骤 | 第48-49页 |
| ·实验结果与讨论 | 第49-55页 |
| ·传质性能测试 | 第55-63页 |
| ·实验物系 | 第55-57页 |
| ·实验装置 | 第57-58页 |
| ·实验步骤 | 第58-59页 |
| ·分析方法 | 第59-60页 |
| ·实验结果与讨论 | 第60-63页 |
| ·本章小结 | 第63-65页 |
| 第四章 研究与展望 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-69页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第69-70页 |
| 致谢 | 第70页 |
