摘要 | 第1-8页 |
Abstract | 第8-15页 |
第一章 前言 | 第15-67页 |
·光催化概述 | 第15-23页 |
·半导体光催化原理 | 第16-19页 |
·常见的半导体光催化剂 | 第19-20页 |
·影响光催化反应的因素 | 第20-23页 |
·WO_3光催化概述 | 第23-31页 |
·WO_3结构 | 第23-25页 |
·WO_3合成方法 | 第25-27页 |
·提高WO_3光催化活性的方法 | 第27-31页 |
·Fe_2O_3光催化概述 | 第31-37页 |
·氧化铁的结构和制备 | 第32-34页 |
·铁的光化学 | 第34-37页 |
·酞菁配合物概述 | 第37-43页 |
·酞菁配合物结构 | 第38-39页 |
·酞菁配合物的合成方法 | 第39-40页 |
·酞菁的光化学性质 | 第40-43页 |
·论文选题依据及思路 | 第43-45页 |
参考文献 | 第45-67页 |
第二章 光催化剂的表征及活性评价 | 第67-81页 |
·光催化剂的表征 | 第67-75页 |
·X射线粉末衍射(XRD) | 第67-68页 |
·拉曼光谱(Raman) | 第68页 |
·固体漫反射光谱(DRS) | 第68-69页 |
·荧光光谱(PL) | 第69-70页 |
·比表面积及孔径分布(BET) | 第70-71页 |
·X射线荧光光谱(XRF) | 第71-72页 |
·电子顺磁共振(EPR) | 第72-73页 |
·扫描电镜(SEM) | 第73页 |
·电化学阻抗谱 | 第73-74页 |
·半导体平带电位的测量 | 第74-75页 |
·光催化反应动力学 | 第75-79页 |
·Langmuir-Hinshelwood动力学方程 | 第75-76页 |
·光催化反应装置 | 第76-77页 |
·光催化反应活性物种的测定 | 第77-78页 |
·Fe~(3+)离子及H_2O_2浓度的测定 | 第78-79页 |
参考文献 | 第79-81页 |
第三章 Fe_2O_3簇修饰的WO_3光催化剂降解有机物活性的提高及机理研究 | 第81-109页 |
·概述 | 第81-82页 |
·实验部分 | 第82-85页 |
·材料与试剂 | 第82-83页 |
·催化剂的制备 | 第83-84页 |
·催化剂表征 | 第84页 |
·光催化反应 | 第84-85页 |
·结果与讨论 | 第85-102页 |
·催化剂表征 | 第85-89页 |
·Fe修饰WO_3光催化剂活性 | 第89-93页 |
·影响催化剂活性的因素 | 第93-97页 |
·羟基自由基 | 第97-100页 |
·荧光光谱分析 | 第100-101页 |
·光催化反应机理 | 第101-102页 |
·结论 | 第102页 |
参考文献 | 第102-109页 |
第四章 Fe_2O_3和WO_3在紫外和可见光下降解有机污染物的协同效应 | 第109-132页 |
·概述 | 第109-110页 |
·实验部分 | 第110-113页 |
·材料与试剂 | 第110页 |
·催化剂的制备 | 第110-111页 |
·催化剂表征 | 第111页 |
·光催化反应 | 第111-112页 |
·电化学实验 | 第112-113页 |
·结果与讨论 | 第113-128页 |
·制备催化剂原料的选择 | 第113-114页 |
·基础光催化反应 | 第114-117页 |
·催化剂煅烧温度的影响 | 第117-119页 |
·Fe_2O_3掺杂量的影响 | 第119-124页 |
·反应机理研究 | 第124-128页 |
·结论 | 第128页 |
参考文献 | 第128-132页 |
第五章 AlPcS_4可见光降解2,4,6-TCP产物分析 | 第132-148页 |
·概述 | 第132-133页 |
·实验部分 | 第133-135页 |
·材料与试剂 | 第133-134页 |
·催化剂的合成 | 第134页 |
·光催化反应 | 第134页 |
·反应产物的收集与检测 | 第134-135页 |
·结果与讨论 | 第135-142页 |
·结论 | 第142页 |
参考文献 | 第142-148页 |
第六章 研究结论与展望 | 第148-151页 |
·研究结论 | 第148-149页 |
·展望 | 第149-151页 |
攻读博士学位期间完成的学术论文与专利 | 第151-152页 |
致谢 | 第152页 |