| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-20页 |
| §1.1 研究背景及意义 | 第10页 |
| §1.2 国内外研究动态 | 第10-17页 |
| §1.2.1 目标的电磁散射 | 第10-12页 |
| §1.2.2 粗糙面的电磁散射 | 第12-15页 |
| §1.2.3 粗糙面与目标的复合电磁散射 | 第15-17页 |
| §1.3 论文主要工作及贡献 | 第17-20页 |
| §1.3.1 论文的主要工作及框架 | 第17-18页 |
| §1.3.2 论文的主要创新点 | 第18-20页 |
| 第二章 三维导体目标与介质海面的复合电磁散射 | 第20-40页 |
| §2.1 计算三维导体目标的等效边缘电磁流方法 | 第20-26页 |
| §2.1.1 等效边缘电磁流法的概念及其分类 | 第20-21页 |
| §2.1.2 等效边缘电磁流的总场综合分析法 | 第21-24页 |
| §2.1.3 数值计算结果 | 第24-26页 |
| §2.2 海面散射场的计算 | 第26-32页 |
| §2.2.1 一维海面的模拟及其散射场计算 | 第26-29页 |
| §2.2.2 二维海面的模拟及其散射场计算 | 第29-32页 |
| §2.3 耦合场和复合场的计算 | 第32-39页 |
| §2.3.1 耦合场的计算 | 第32-34页 |
| §2.3.2 复合场的计算 | 第34-35页 |
| §2.3.3 数值计算结果 | 第35-39页 |
| §2.4 本章小结 | 第39-40页 |
| 第三章 阻抗劈的电磁散射特性研究 | 第40-58页 |
| §3.1 在精确阻抗边界条件下分析阻抗劈的电磁散射 | 第40-45页 |
| §3.1.1 阻抗劈简介 | 第40页 |
| §3.1.2 阻抗边界条件及精确阻抗边界条件 | 第40-42页 |
| §3.1.3 在精确阻抗边界条件下计算阻抗劈的电磁散射 | 第42-45页 |
| §3.2 Maliuzhinets函数和复宗量Fresnel函数 | 第45-50页 |
| §3.2.1 Maliuzhinets函数的计算 | 第45-47页 |
| §3.2.2 复宗量Fresnel函数的计算 | 第47-50页 |
| §3.3 平面波斜入射时阻抗劈的电磁散射 | 第50-56页 |
| §3.3.1 平面波斜入射时阻抗劈的散射场表达式 | 第50-54页 |
| §3.3.2 数值计算结果 | 第54-56页 |
| §3.4 本章小结 | 第56-58页 |
| 第四章 二面角的RCS计算 | 第58-74页 |
| §4.1 二面角结构的主要分析方法 | 第58-59页 |
| §4.1.1 二面角结构的散射机理 | 第58页 |
| §4.1.2 二面角结构的主要分析方法 | 第58-59页 |
| §4.2 二面角结构散射场的计算 | 第59-69页 |
| §4.2.1 利用物理光学法分析角形结构的RCS | 第59-60页 |
| §4.2.2 11 种散射分量的表达形式 | 第60-66页 |
| §4.2.3 数值计算结果 | 第66-69页 |
| §4.3 涂覆介质二面角的电磁散射 | 第69-72页 |
| §4.3.1 反射系数 | 第69-71页 |
| §4.3.2 数值计算结果 | 第71-72页 |
| §4.4 本章小结 | 第72-74页 |
| 第五章 海面与目标复合电磁散射的迭代物理光学法 | 第74-86页 |
| §5.1 海面与目标复合散射的二面角效应 | 第74-76页 |
| §5.2 迭代物理光学法 | 第76-80页 |
| §5.2.1 迭代物理光学法基本公式 | 第76-77页 |
| §5.2.2 迭代物理光学法的具体实现 | 第77-78页 |
| §5.2.3 数值计算结果 | 第78-80页 |
| §5.3 Z-Buffer方法对角反射器结构进行消隐 | 第80-82页 |
| §5.3.1 Z-Buffer方法 | 第80-81页 |
| §5.3.2 采用Z-Buffer方法对角反射器结构消隐 | 第81-82页 |
| §5.4 数值计算结果 | 第82-84页 |
| §5.5 本章小结 | 第84-86页 |
| 结束语 | 第86-88页 |
| 致谢 | 第88-90页 |
| 参考文献 | 第90-100页 |
| 攻读硕士期间科研情况 | 第100-101页 |
