| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-21页 |
| ·引言 | 第7-8页 |
| ·碳化硅介绍 | 第8-12页 |
| ·碳化硅的晶体结构 | 第8-10页 |
| ·碳化硅的性质及应用 | 第10-12页 |
| ·碳化硅晶体生长设备 | 第12-14页 |
| ·真空室内部装置介绍 | 第14-15页 |
| ·碳化硅晶体生长方法 | 第15-18页 |
| ·晶体生长背景 | 第15-16页 |
| ·物理气相传输法 | 第16-18页 |
| ·晶体生长一般性工艺 | 第18-20页 |
| ·本论文工作选题和项目来源 | 第20-21页 |
| 第二章 晶体凸度问题 | 第21-25页 |
| ·引言 | 第21-22页 |
| ·高温线—料底间距介绍 | 第22-23页 |
| ·碳化硅晶体凸度的解决 | 第23-25页 |
| 第三章 高温线的控制 | 第25-29页 |
| ·引言 | 第25页 |
| ·籽晶杆提拉定位器 | 第25-29页 |
| 第四章 原料的处理及装料 | 第29-31页 |
| ·原料处理的规范化 | 第29-30页 |
| ·装料的标准化 | 第30-31页 |
| 第五章 金刚石提纯 | 第31-34页 |
| ·引言 | 第31页 |
| ·实验 | 第31-32页 |
| ·结果与讨论 | 第32-34页 |
| 工作总结及展望 | 第34-36页 |
| 致谢 | 第36-37页 |
| 参考文献 | 第37-39页 |