石墨烯的尺寸控制研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-26页 |
| ·石墨烯及其相关研究背景 | 第9-10页 |
| ·场致电子发射和表面传导 | 第10-18页 |
| ·表面势垒和隧道效应 | 第10-11页 |
| ·场致电子发射公式推导 | 第11-15页 |
| ·空间电荷效应 | 第15-16页 |
| ·石墨烯的场发射 | 第16-17页 |
| ·表面传导发射 | 第17-18页 |
| ·表面传导发射的研究现状和应用 | 第18-24页 |
| ·SED 的工作机理 | 第19-20页 |
| ·SED 的优缺点 | 第20-22页 |
| ·SED 的发展历程以及前景 | 第22-24页 |
| ·本文的选题背景和研究内容 | 第24-26页 |
| 第二章 石墨烯的制备 | 第26-42页 |
| ·石墨烯的制备方法 | 第26-30页 |
| ·机械剥离法 | 第26页 |
| ·外延生长法 | 第26-27页 |
| ·等离子体化学气相沉积法 | 第27页 |
| ·化学氧化插层法 | 第27-28页 |
| ·热膨胀法 | 第28-29页 |
| ·溶剂剥离法 | 第29-30页 |
| ·溶剂热法 | 第30页 |
| ·其他方法 | 第30页 |
| ·本文所采用的石墨烯制备方法 | 第30-36页 |
| ·对于实验的改进 | 第36-39页 |
| ·透析的原理 | 第36-38页 |
| ·实验的改进 | 第38-39页 |
| ·氧化石墨烯的还原 | 第39-40页 |
| ·联氨（水合肼）还原 | 第39页 |
| ·加热还原 | 第39-40页 |
| ·本章小结 | 第40-42页 |
| 第三章 石墨烯的厚度控制和尺寸控制 | 第42-51页 |
| ·实验具体内容 | 第43-50页 |
| ·实验原料 | 第43页 |
| ·实验仪器-离心机 | 第43-44页 |
| ·实验过程 | 第44-47页 |
| ·实验结果分析 | 第47-50页 |
| ·本章小结 | 第50-51页 |
| 第四章 FED 荧光屏的制备工艺 | 第51-64页 |
| ·FED 荧光屏的设计选材 | 第51-53页 |
| ·荧光屏的设计要求 | 第52页 |
| ·荧光粉的选取 | 第52-53页 |
| ·荧光屏的制备方法 | 第53-59页 |
| ·重力沉淀法 | 第53-54页 |
| ·电泳法 | 第54-59页 |
| ·荧光屏的测试 | 第59-62页 |
| ·测试仪器-场发射测试平台 | 第59-60页 |
| ·测试结果 | 第60-62页 |
| ·本章小结 | 第62-64页 |
| 第五章 结论和展望 | 第64-66页 |
| 致谢 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-70页 |
| 攻硕期间取得的研究成果 | 第70-71页 |
