| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-25页 |
| ·课题背景及意义 | 第9页 |
| ·半导体光催化氧化的基本概念和机理 | 第9-16页 |
| ·半导体光催化氧化概述 | 第9-11页 |
| ·半导体纳米粒子光催化反应机理 | 第11-12页 |
| ·TiO_2光催化反应过程 | 第12-14页 |
| ·纳米TiO_2光催化活性的主要影响因素 | 第14-16页 |
| ·国内外研究现状及分析 | 第16-22页 |
| ·氮掺杂改性二氧化钛的制备技术 | 第17-19页 |
| ·光催化剂的失活机制分析 | 第19-20页 |
| ·光催化剂的活性分析技术研究方法 | 第20-21页 |
| ·光催化剂的再生技术分析 | 第21-22页 |
| ·本论文研究目的意义与研究内容 | 第22-25页 |
| ·论文的研究目的意义 | 第22-23页 |
| ·论文的研究内容 | 第23-25页 |
| 第2章 N/TiO_2催化剂的制备及催化活性的初步研究 | 第25-34页 |
| ·纳米TiO_2催化剂的制备及优化 | 第25-28页 |
| ·TiO_2光催化剂的制备 | 第25页 |
| ·TiO_2光催化剂焙烧温度的优化 | 第25-28页 |
| ·N/TiO_2催化剂的制备及制备方案的优化 | 第28-32页 |
| ·试验仪器与药品 | 第28页 |
| ·N/TiO_2光催化剂的制备方法 | 第28页 |
| ·N/TiO_2光催化剂制备方案的优化 | 第28-32页 |
| ·N/TiO_2催化剂光催化活性的初步研究 | 第32-33页 |
| ·本章小结 | 第33-34页 |
| 第3章 N/TiO_2催化剂的表征 | 第34-45页 |
| ·引言 | 第34页 |
| ·N/TiO_2表面结构与形貌分析 | 第34-41页 |
| ·X-射线衍射（XRD）分析 | 第34-35页 |
| ·X-射线光电子能谱（XPS）分析 | 第35-38页 |
| ·红外光谱（IR）分析 | 第38-39页 |
| ·比表面积（BET）分析 | 第39-41页 |
| ·N/TiO_2光吸收性质研究 | 第41-44页 |
| ·表面光电压谱（SPS）分析 | 第41-42页 |
| ·紫外漫反射（DRS）分析 | 第42-44页 |
| ·本章小结 | 第44-45页 |
| 第4章 N/TiO_2光催化降解苯甲酸的研究 | 第45-53页 |
| ·引言 | 第45-46页 |
| ·试验材料与方法 | 第46-47页 |
| ·试验材料 | 第46页 |
| ·试验方法 | 第46-47页 |
| ·N/TiO_2光催化降解苯甲酸影响因素的研究 | 第47-52页 |
| ·N/TiO_2光催化剂投加量的影响 | 第47-48页 |
| ·pH值的影响 | 第48-50页 |
| ·苯甲酸初始浓度的影响 | 第50-51页 |
| ·照射波长的影响 | 第51-52页 |
| ·本章小结 | 第52-53页 |
| 第5章 N/TiO_2光催化剂中毒及再生方法的研究 | 第53-60页 |
| ·引言 | 第53页 |
| ·光催化剂使用寿命的考察 | 第53-54页 |
| ·光催化剂再生方法的研究 | 第54-59页 |
| ·UV光照射法再生 | 第54-55页 |
| ·超声波振荡法再生 | 第55-56页 |
| ·酸洗法再生 | 第56-57页 |
| ·高温焙烧法再生 | 第57-58页 |
| ·不同再生方法的比较 | 第58-59页 |
| ·本章小结 | 第59-60页 |
| 结论 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-68页 |
| 致谢 | 第68页 |