| 第1章 引言 | 第1-11页 |
| 第2章 电子陷阱与浅电子陷阱掺杂剂 | 第11-22页 |
| ·Gurney and Mott理论与陷阱 | 第11-17页 |
| ·Gurney and Mott理论 | 第11-14页 |
| ·陷阱及其作用 | 第14-17页 |
| ·浅电子陷阱掺杂剂 | 第17-22页 |
| ·浅电子陷阱掺杂剂的原理及作用 | 第18-19页 |
| ·筛选浅电子陷阱掺杂剂的原则 | 第19-20页 |
| ·浅电子陷阱掺杂剂的类型 | 第20-21页 |
| ·浅电子陷阱掺杂剂在颗粒的掺杂部位 | 第21-22页 |
| 第3章 掺有不同浓度[M(CN)_6]~n的卤化银微晶中自由光电子衰减的计算模型 | 第22-32页 |
| ·基本模型 | 第23-27页 |
| ·模型 | 第23-25页 |
| ·动力学方程 | 第25-27页 |
| ·计算方法 | 第27-32页 |
| 第4章 模型的验证与模拟参数的调整规律 | 第32-38页 |
| ·模型的验证 | 第32-34页 |
| ·模拟参数的调整 | 第34-38页 |
| ·纯卤化银乳剂中固有中心俘获参数 | 第34-35页 |
| ·掺杂卤化银乳剂中SET俘获参数 | 第35-38页 |
| 第5章 AgCl立方体微晶中K_4Fe(CN)_6掺杂的结果 | 第38-49页 |
| ·实验结果 | 第38-40页 |
| ·实验装置 | 第38-39页 |
| ·实验样品 | 第39页 |
| ·实验结果 | 第39-40页 |
| ·模拟结果 | 第40-49页 |
| ·固有中心的模拟参数 | 第40-42页 |
| ·SET的模拟参数 | 第42-46页 |
| ·最佳掺杂浓度的确定 | 第46-49页 |
| 结束语 | 第49-52页 |
| 参考文献 | 第52-54页 |
| 致谢 | 第54页 |